[发明专利]一种相控阵超声聚焦流体振动抛光装置无效
申请号: | 201210057182.7 | 申请日: | 2012-03-06 |
公开(公告)号: | CN102601687A | 公开(公告)日: | 2012-07-25 |
发明(设计)人: | 王绍治;王君林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | B24B1/04 | 分类号: | B24B1/04 |
代理公司: | 长春菁华专利商标代理事务所 22210 | 代理人: | 南小平 |
地址: | 130033 吉*** | 国省代码: | 吉林;22 |
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摘要: | 一种相控阵超声聚焦流体振动抛光装置属于光学冷加工领域,该装置包括主控制器、信号接收与采集模块、超声发射模块、超声相控阵换能器和装有抛光液的敞口容器。抛光前,先由主控制器控制超声发射模块驱动超声相控阵换能器对工件位置进行扫描,确定工件位置后,再根据工件各点的驻留时间对工件表面进行超声聚焦扫描,聚焦后的超声将振动传递给流体,由流体带动抛光颗粒振动来对工件表面进行局部去除。该装置可用于工件表面的面形修正,也可降低工件表面的粗糙度。 | ||
搜索关键词: | 一种 相控阵 超声 聚焦 流体 振动 抛光 装置 | ||
【主权项】:
一种相控阵超声聚焦流体振动抛光装置,其特征在于,该装置包括主控制器(1)、信号接收与采集模块(2)、超声发射模块(3)、超声相控阵换能器(4)和装有抛光液(6)的敞口容器(5);主控制器(1)发出含有延时的控制信号给超声发射模块(3),超声发射模块(3)驱动超声相控阵换能器(4)产生超声振动并在待加工件(7)上的待抛光点聚焦,经过待加工件(7)反射回来的声波再由同一个超声相控阵换能器(4)接收,超声相控阵换能器(4)接收的声波信号经过信号接收与采集模块(2)处理后传给主控制器(1)。
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