[发明专利]一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺

摘要

本发明公开一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其中，包括一玻璃基材，在所述玻璃基材上依次镀膜一层氮化硅介电层、一层氧化锌介电层；一层银的功能层、一层镍铬合金靶金属合金层以及具有一层氧化锌锡锑层和一层氮化硅层的两层复合介电层。使用本发明一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，通过离线磁控溅射技术，在玻璃基材表面镀上对红外区域高反射，对近、远红外低吸收的多层膜层结构，其中至少包括一层可对太阳辐射起作用的银的功能层，其具有灵活调节透过、吸收和反射量的特征，有效地降低玻璃的辐射率，提高玻璃热阻，同时可达到需要的颜色和遮阳系数。并且有效地提高玻璃基材面的可见光的透过率以及光热选择性。

主权项

一种高透过率高性能低辐射玻璃的工艺，其特征在于，包括一玻璃基材，步骤一，对所述玻璃基材进行清洗和干燥；步骤二，对经过清洗和干燥的所述玻璃基材进行第一次预真空过渡；步骤三，在所述玻璃基材上依次镀膜一层氮化硅介电层和一层氧化锌介电层；步骤四，在镀有两介电层的所述玻璃基材上镀膜一层作为对红外线区和/或太阳辐射光区具有反射性能的银的功能层；步骤五，在具有所述功能层的所述玻璃基材上继续镀膜一层镍铬合金靶的金属合金层；步骤六，在镀有所述金属合金层的所述玻璃基材上再镀膜两层复合介电层，并且依次对一氧化锌锡锑层和一氮化硅层沉积；步骤七，对所述玻璃基材进行第二次的预真空过渡；步骤八，对所述玻璃基材进行成品检测。