[发明专利]一种硅钢级氧化镁涂层的制备方法有效
| 申请号： | 201210035085.8 | 申请日： | 2012-02-17 |
| 公开（公告）号： | CN103253875A | 公开（公告）日： | 2013-08-21 |
| 发明（设计）人： | 孙光 | 申请（专利权）人： | 孙光 |
| 主分类号： | C04B2/10 | 分类号： | C04B2/10 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 113006 辽宁省抚顺*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种专用于取向硅钢片的硅钢级氧化镁涂层的制备方法，包括以下工艺步骤：选用天然隐晶质菱镁矿生产出轻烧氧化镁粉；将轻烧氧化镁消化，酸碱中和脱钙，在温度为15-30℃、时间为5-15分钟进行反应，生成氢氧化镁，然后经水洗、过滤、干燥后在温度为1100±50℃、时间为2.0±0.5小时下进行煅烧，可得高纯轻烧氧化镁粉；利用气流磨加工成所需要的微米级粒度段。本发明所生产的硅钢级氧化镁涂层具有化学纯度高、杂质离子低，悬浮性好，水化率低，涂布性、附着性好等特点；其物理性能远优于同类产品，是生产取向硅钢片的良好退火隔离剂；而且生产工序简单、大幅度降低生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅钢 氧化镁 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种硅钢级氧化镁涂层的制备方法，其特征在于，包括以下工艺步骤：步骤A：选用天然隐晶质菱镁矿生产出轻烧氧化镁粉；步骤B：将轻烧氧化镁消化，酸碱中和脱钙，在温度为15‑30℃、时间为5‑15分钟进行反应，生成氢氧化镁，然后经水洗、过滤、干燥后在温度为1100±50℃、时间为2.0±0.5小时下进行煅烧，可得高纯轻烧氧化镁粉；步骤C：利用气流磨加工成所需要的微米级粒度段。
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