[发明专利]双面涂布装置无效

专利信息
申请号: 201210032483.4 申请日: 2012-02-14
公开(公告)号: CN102632017A 公开(公告)日: 2012-08-15
发明(设计)人: 中畑政臣;植松育生;森岛秀明 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: B05C9/04 分类号: B05C9/04;B05C13/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 胡建新
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种双面涂布装置,在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的涂布区域涂布涂液。双面涂布装置具有传送机构、第1涂布头、第2涂布头及涂布辊。传送机构沿送出方向传送基材。第1涂布头配置于基材的一个面侧,在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。第2涂布头配置于基材的另一个面侧,在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。涂布辊具有多个第1辊、第2辊及旋转机构。多个第1辊配置于基材的一个面侧且与第2涂布头隔着基材相对置的位置附近,设置于沿着轴向的两端部。第2辊设置于第1辊之间。旋转机构使第1辊及第2辊旋转,使第1辊的圆周速度大于第2辊的圆周速度。
搜索关键词: 双面 装置
【主权项】:
一种双面涂布装置,在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的上述涂布区域上涂布涂液,上述双面涂布装置包括:传送机构,沿送出方向传送上述基材;第1涂布头,配置于上述基材的一个面侧,使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液;第2涂布头,配置于上述基材的另一个面侧,使上述涂液在与上述送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域地涂布上述涂液;以及涂布辊,配置于上述基材的一个面侧且与上述第2涂布头隔着上述基材相对置的位置附近,上述涂布辊具有:第1辊,设置于沿着轴向的两端部;第2辊,设置于上述第1辊之间;以及旋转机构,使上述第1辊及第2辊旋转,并且使上述第1辊的圆周速度大于上述第2辊的圆周速度。
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