[发明专利]保护剂供给元件、保护层形成设备和图像形成设备有效
申请号: | 201210022416.4 | 申请日: | 2012-02-01 |
公开(公告)号: | CN102629099A | 公开(公告)日: | 2012-08-08 |
发明(设计)人: | 长谷川邦雄;中井洋志;田中真也 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00;G03G5/147;G03G15/00 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 赵蓉民;陆惠中 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供了保护剂供给元件,其包含芯材和提供在所述芯材外周上的泡沫层,其中所述保护剂供给元件呈辊形,并且所述泡沫层具有粗糙的表面,并具有400μm至1,630μm的最大高度Ry。 | ||
搜索关键词: | 保护 供给 元件 保护层 形成 设备 图像 | ||
【主权项】:
保护剂供给元件,包括:芯材;和泡沫层,其被提供在所述芯材的外周上,其中所述保护剂供给元件呈辊形,以及其中所述泡沫层具有粗糙的表面,并具有400μm至1,630μm的最大高度Ry。
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