[发明专利]面部成像系统和用于控制面部成像系统的方法有效
| 申请号： | 201210021056.6 | 申请日： | 2012-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN102625047A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 大见拓宽;渡边泰斗 | 申请（专利权）人： | 株式会社电装 |
| 主分类号： | H04N5/235 | 分类号： | H04N5/235;G03B15/05;B60R11/04;G06K9/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 杜诚;贾萌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种面部成像系统和用于控制面部成像系统的方法。投射单元(21)向用户的面部被假定位于的预定投射区域投射光。成像单元(22)对包括用来自投射单元(21)的光投射的投射区域的区域进行成像。靠近检测单元(23、24、25、27、S11到S29)检测用户的面部接近投射单元(21)。第一投射控制单元(24、S21)在靠近检测单元(23、24、25、27、S11到S29)检测到用户面部的接近时使投射单元(21)停止或变暗光的投射。 | ||
| 搜索关键词： | 面部 成像 系统 用于 控制 方法 | ||
【主权项】：
一种面部成像系统，包括：投射单元(21)，配置为向用户的面部被假定位于的预定投射区域投射光；成像单元(22)，配置为对包括用来自所述投射单元(21)的光投射的所述投射区域的区域进行成像；靠近检测单元(23、24、25、27、S11到S29)，配置为检测用户的面部相对于所述投射单元(21)的靠近；以及第一投射控制单元(24、S21)，配置为在所述靠近检测单元(23、24、25、27、S11到S29)检测到用户面部的接近时，使所述投射单元(21)停止或变暗光的投射。
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