[发明专利]防反射膜和防反射板有效
申请号: | 201180073934.2 | 申请日: | 2011-08-01 |
公开(公告)号: | CN103842856A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 齐藤昌宏;桥本博一;池田由香里 | 申请(专利权)人: | 福美化学工业株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/10 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种防反射膜,其具有高防反射效果以及优异的耐擦伤性和耐湿性,并且包含具有小于1.48的折射率和50-200nm的厚度的低折射率层,所述低折射率层以5-95重量%∶95-5重量%的配合比包含(A)具有10-150nm的平均粒径和1.44以下的折射率的低折射率中空硅溶胶和(B)具有5-110nm的平均粒径和1.44-1.50的折射率的硅溶胶,并且以60-99重量%∶40-1重量%的配合比包含(C)硅烷偶联化合物或其水解产物和(D)金属螯合化合物,其中(A)和(B)的总量与(C)和(D)的总量之比为10-50重量%∶90-50重量%,以及(A)相对于所述低折射率层的总量为30重量份以下。还提供一种防反射板,对于其,将该防反射膜装置在透明树脂基板上。 | ||
搜索关键词: | 反射 | ||
【主权项】:
一种防反射膜,其包含具有小于1.48的折射率和50‑200nm的厚度的低折射率层,其中所述低折射率层包含:(A)具有10‑150nm的平均粒径和不大于1.44的折射率的低折射率中空硅溶胶;(B)具有5‑110nm的平均粒径和不小于1.44但不大于1.50的折射率的硅溶胶;(C)硅烷偶联化合物或其水解产物;和(D)金属螯合化合物;以5‑95重量%:95‑5重量%的配合比包含所述低折射率中空硅溶胶(A)和所述硅溶胶(B),以60‑99重量%:40‑1重量%的配合比包含所述硅烷偶联化合物或其水解产物(C)和所述金属螯合化合物(D),所述低折射率中空硅溶胶(A)和所述硅溶胶(B)的总量与所述硅烷偶联化合物或其水解产物(C)和所述金属螯合化合物(D)的总量之比为10‑50重量%:90‑50重量%,以及所述低折射率中空硅溶胶(A)的量相对于所述低折射率层的总量为不大于30重量份。
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