[发明专利]在含水系统中抑制二氧化硅污垢形成和沉积的方法有效

专利信息
申请号: 201180068081.3 申请日: 2011-12-21
公开(公告)号: CN103380089B 公开(公告)日: 2016-10-26
发明(设计)人: N.T.格林;J.S.吉尔;M.R.戈弗雷;C.威廉姆斯 申请(专利权)人: 纳尔科公司
主分类号: C02F5/10 分类号: C02F5/10;C02F5/00;C02F1/42;C02F101/10
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 贾静环
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及一种在水系统中抑制二氧化硅和硅酸盐化合物的形成和沉积的改善方法。具体地,该方法包括向水系统中加入相对低分子量的有机阴离子聚合物。该聚合物优选具有丙烯酸或甲基丙烯酸官能团并且其优选地选自丙烯酸均聚物、甲基丙烯酸/聚乙二醇烯丙基醚共聚物、甲基丙烯酸均聚物、丙烯酸/聚乙二醇烯丙基醚共聚物、以及丙烯酸/1‑烯丙氧基‑2‑羟基丙烷磺酸共聚物、马来酸酐均聚物,马来酸酐和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物,及它们的组合中的一种或多种。
搜索关键词: 含水 系统 抑制 二氧化硅 污垢 形成 沉积 方法
【主权项】:
一种在冷却水系统中抑制二氧化硅和硅酸盐化合物的形成和沉积的方法,该方法包括在冷却水系统的水中加入有效抑制量的一种或多种低分子量阴离子聚合物,该聚合物选自包括以下物质的组:丙烯酸均聚物;甲基丙烯酸均聚物;丙烯酸和1‑烯丙氧基‑2‑羟基丙烷磺酸的共聚物;马来酸酐均聚物;马来酸酐和聚乙二醇烯丙基醚的共聚物;及它们的组合,其中所述的一种或多种低分子量阴离子聚合物具有5,000Da至200,000Da的重均分子量,且聚合物活性物为25%~100%,且其中所述聚合物的剂量范围为1~100ppm,其中在至少为5.0以上的pH并且温度在环境温度至超过500℉的温度范围内有效使用所述聚合物。
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