[实用新型]真空成型转印膜有效
| 申请号： | 201120202275.5 | 申请日： | 2011-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN202123813U | 公开（公告）日： | 2012-01-25 |
| 发明（设计）人： | 沈五展 | 申请（专利权）人： | 福建省泰兴激光科技有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/00 | 分类号： | B41M5/00;B32B15/04;B32B15/20;B32B27/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362400 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空成型转印膜，其结构包含：一薄膜层；一涂层，其涂布于所薄膜层的一侧面；一信息层，其叠设于所述涂层的一侧面；一镀铝层，其叠设于所述信息层的一侧面；一保护层，其叠设于所述镀铝层的一侧面。本实用新型的优点：本实用新型转印膜是经过涂布、印刷、蒸镀等工艺处理过的薄膜，具备转印、装饰、保护功能，可以将诸如图文印刷、包装整饰、产品保护等功效转移到立体产品表面。 | ||
| 搜索关键词： | 真空成型 转印膜 | ||
【主权项】：
一种真空成型转印膜，其特征在于：其结构包含有：一薄膜层；一涂层，其涂布于所述薄膜层的一侧面；一信息层，其叠设于所述涂层的一侧面；一镀铝层，其叠设于所述信息层的一侧面；一保护层，其叠设于所述镀铝层的一侧面。
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