[发明专利]可聚合光产酸剂有效
| 申请号： | 201110463334.9 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102603579A | 公开（公告）日： | 2012-07-25 |
| 发明（设计）人： | J·W·撒克里;S·M·科利;V·简恩;O·昂格伊;J·F·卡梅伦;P·J·拉博姆;A·E·麦德考尔 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料有限公司;陶氏环球技术有限公司 |
| 主分类号： | C07C309/42 | 分类号： | C07C309/42;C07C309/12;C07C303/32;C07C381/12;C07C25/02;C07D333/76;C08F220/38;C08F220/18;C08F220/30;C08F220/28;C08F212/32;G03F7/004 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 可聚合光产酸剂。一种化合物，具有结构式(I)：Q-O-(A)-Z-G+ (I)，其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。公开了共聚物、光致抗蚀剂、涂覆的基材和图案化方法。 | ||
| 搜索关键词： | 聚合 光产酸剂 | ||
【主权项】：
1.一种具有结构式(I)的化合物：Q-O-(A)-Z-G+ (I)其中Q是卤代或非卤代的含C2-30烯烃的基团，A是氟代C1-30亚烷基、氟代C3-30亚环烷基、氟代C6-30亚芳基或氟代C7-30亚烷基-亚芳基，Z是包含磺酸盐、磺酰胺或磺酰亚胺的阴离子基团，以及G+具有结构式(II)：![]()
其中X是S或I，每个R0是卤代或非卤代的并独立地为C1-30烷基、多环或单环C3-30环烷基、多环或单环C4-30芳基或包含前述至少一种的组合，其中当X是S时，所述R0基团中的一个任选地通过单键与一个相邻的R0基团连接，并且a是2或3，其中当X是I时，a是2，或者当X是S时，a是3。
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