[发明专利]等离子显示屏及其前基板介质层的制作工艺无效
| 申请号： | 201110458179.1 | 申请日： | 2011-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102496549A | 公开（公告）日： | 2012-06-13 |
| 发明（设计）人： | 丁海泉 | 申请（专利权）人： | 四川虹欧显示器件有限公司 |
| 主分类号： | H01J11/38 | 分类号： | H01J11/38;H01J11/40;H01J11/10 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 吴贵明;余刚 |
| 地址： | 621000 四川省绵阳市*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种等离子显示屏及其前基板介质层的制作工艺。其中，等离子显示屏包括：前基板(5)；前基板介质层(8)，设置在前基板(5)的一侧；前基板介质保护层(11)，覆盖在前基板介质层(8)背向前基板(5)的表面上，前基板介质层(8)背向前基板(5)的表面上形成有多个第一凹陷(12)；前基板介质保护层(11)背向前基板介质层(8)的表面上形成有对应第一凹陷(12)的第二凹陷(13)。本发明有效地解决了现有技术中等离子显示屏的放电效率低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 显示屏 及其 前基板 介质 制作 工艺 | ||
【主权项】：
一种等离子显示屏，包括：前基板(5)；前基板介质层(8)，设置在所述前基板(5)的一侧；前基板介质保护层(11)，覆盖在所述前基板介质层(8)背向所述前基板(5)的表面上，其特征在于，所述前基板介质层(8)背向所述前基板(5)的表面上形成有多个第一凹陷(12)；所述前基板介质保护层(11)背向所述前基板介质层(8)的表面上形成有对应所述第一凹陷(12)的第二凹陷(13)。
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