[发明专利]用于晶圆的兆声清洗装置无效
| 申请号： | 201110452447.9 | 申请日： | 2011-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102513301A | 公开（公告）日： | 2012-06-27 |
| 发明（设计）人： | 路新春;徐海滨;李冉;周顺;何永勇 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 宋合成 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于晶圆的兆声清洗装置。所述用于晶圆的兆声清洗装置包括：机架，所述机架内限定有容纳腔；支撑组件，所述支撑组件设在所述容纳腔内用于可旋转地支撑沿竖直方向定向的晶圆；第一兆声喷头和第二兆声喷头，所述第一兆声喷头和所述第二兆声喷头在所述晶圆的轴向上间隔开地设在所述容纳腔内以分别用于清洗所述晶圆的两个表面；和兆声喷头驱动件，所述兆声喷头驱动件设在所述机架上且与所述第一和第二兆声喷头相连以驱动所述第一兆声喷头和所述第二兆声喷头沿所述晶圆的径向平移。利用根据本发明实施例的用于晶圆的兆声清洗装置可以全面地、快速地清洗晶圆，并且可以将晶圆上的颗粒和化学药剂全部清洗掉，从而达到更好的清洗效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洗 装置 | ||
【主权项】：
一种用于晶圆的兆声清洗装置，其特征在于，包括：机架，所述机架内限定有容纳腔；支撑组件，所述支撑组件设在所述容纳腔内用于可旋转地支撑沿竖直方向定向的晶圆；第一兆声喷头和第二兆声喷头，所述第一兆声喷头和所述第二兆声喷头在所述晶圆的轴向上间隔开地设在所述容纳腔内以分别用于清洗所述晶圆的两个表面；和兆声喷头驱动件，所述兆声喷头驱动件设在所述机架上且与所述第一和第二兆声喷头相连以驱动所述第一兆声喷头和所述第二兆声喷头沿所述晶圆的径向平移。
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