[发明专利]放射摄影成像装置以及放射摄影成像系统无效

专利信息
申请号: 201110446842.6 申请日: 2011-12-28
公开(公告)号: CN102579063A 公开(公告)日: 2012-07-18
发明(设计)人: 桑原孝夫 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 夏东栋;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供了一种放射摄影成像装置,包括:辐射源,其照射通过反康普顿散射而产生的辐射;第一光栅,在该第一光栅处并排形成衍射或吸收辐射的第一构件,使得其间距在离从辐射源照射的辐射的中心位置的距离越大的地方则越大,第一光栅利用第一构件衍射或者吸收从辐射源照射的辐射;第二光栅,其布置在一位置处,在所述位置处通过由第一光栅衍射或者吸收的辐射产生Talbot干涉,并且在所述位置处并排形成吸收辐射的第二构件,使得其间距在离从辐射源照射的辐射的中心位置的距离越大的地方则越大;以及辐射检测器,其检测已经通过第二光栅的辐射。
搜索关键词: 放射 摄影 成像 装置 以及 系统
【主权项】:
一种放射摄影成像装置,其包括:辐射源,其照射通过反康普顿散射产生的辐射;第一光栅,在所述第一光栅处并排形成衍射或吸收辐射的第一构件,使得其间距在离从所述辐射源照射的辐射的中心位置的距离越大的地方则越大,所述第一光栅利用所述第一构件衍射或者吸收从所述辐射源照射的辐射;布置在一位置处的第二光栅,在所述位置处通过由所述第一光栅衍射或者吸收的辐射产生Talbot(塔尔博特)干涉,并且在所述位置处并排形成吸收辐射的第二构件,使得其间距在离从所述辐射源照射的辐射的中心位置的距离越大的地方则越大;以及辐射检测器,其检测已经通过所述第二光栅的辐射。
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