[发明专利]等离子成膜装置

摘要

一种等离子成膜装置，其包括成膜室、设置于该成膜室内的等离子发生器及向该成膜室提供气体的供气系统。等离子发生器喷出等离子射流并形成等离子射流区域。等离子成膜装置还包括转动地设置于等离子发生器周围，供气系统给气体载流板提供气体，气体经由气体载流板射向等离子射流区域。通过转动气体载流板能够改变等离子射流区域的形状。该等离子成膜装置所镀的镀膜的致密度高，均匀度良好的同时，沉积效率高，而且打火现象较少。

主权项

一种等离子成膜装置，其包括成膜室、设置于该成膜室内的等离子发生器及向该成膜室提供气体的供气系统，该等离子发生器喷出等离子射流并形成等离子射流区域，其特征在于：该等离子成膜装置还包括转动地设置于该等离子发生器周围的多个气体载流板，该供气系统给该气体载流板提供气体，该气体经由该气体载流板射向该等离子射流区域，通过转动该气体载流板能够改变该等离子射流区域的形状。