[发明专利]有多个半透过部分的半色调掩模及其制造方法无效
申请号: | 201110322312.0 | 申请日: | 2007-05-11 |
公开(公告)号: | CN102360159A | 公开(公告)日: | 2012-02-22 |
发明(设计)人: | 姜甲錫;朴宰佑;朴相昱;沈惟敬;李勤植 | 申请(专利权)人: | LG伊诺特有限公司 |
主分类号: | G03F1/32 | 分类号: | G03F1/32 |
代理公司: | 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 | 代理人: | 杨勇;郑建晖 |
地址: | 韩国首*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明公开一种有多种半透射部分的半色调掩模及其制造方法,使该掩模具有至少两个或更多个其光透射互不相同的半透射部分,利用该一个掩模可以对多个层进行图案化。所述有多个半透射部分的半色调掩模包括:透明基板,在透明基板上形成的以透射预定波段的辐射光的光透射部分,在透明基板上形成以遮蔽预定波段的辐射光的遮光部分,以及通过将半透射材料沉积在所述透明基板上形成的用于以不同的光透射使所述预定波段的辐射光穿过的至少两个或更多个半透射部分。 | ||
搜索关键词: | 有多个半 透过 部分 色调 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种具有多个半透射部分的半色调掩模,包括:透明基板;光透射部分,其形成于所述透明基板上以透射预定波段的辐射光;遮光部分,其形成于所述透明基板上以遮蔽所述预定波段的辐射光;以及至少两个或更多个半透射部分,其通过将半透射材料沉积在所述透明基板上形成,用于以各不相同的光透射使所述预定波段的辐射光穿过,其中所述半透射材料包括作为主要元素的Cr、Si、Mo、Ta、Ti和Al,以及是至少两种或更多种主要元素混合而成的复合材料,或者是在复合材料中加入了COx、Ox和Nx中的至少一种的其他材料。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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