[发明专利]一种红外焦平面阵列及其制作方法有效
| 申请号： | 201110273965.4 | 申请日： | 2011-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN102998002B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | 闫建华;欧文;欧毅 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G01J5/08 | 分类号： | G01J5/08;H01L27/146 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 逯长明,王宝筠 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种红外焦平面阵列，包括多个红外探测单元，所述红外探测单元包括衬底、光敏元件和聚能微透镜，所述光敏元件悬空于衬底上，光敏元件的光敏吸收层覆盖在光敏元件的电路层上，所述的聚能微透镜悬空于光敏元件的光敏吸收层上方，通过微透镜支撑柱与光敏元件连接。相应的，本发明还提供一种红外焦平面阵列的制作方法。本发明的红外焦平面阵列在光敏元件阵列的正向集成了聚能微透镜，所述聚能微透镜将入射在其上的红外光线直接汇聚到光敏元件的红外吸收层，不会被红外吸收层下方的电路层吸收而造成红外焦平面的吸收因子降低。本发明的制作过程不会破坏光敏元件的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 红外 平面 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种红外焦平面阵列的制作方法，其特征在于，包括步骤：提供衬底，所述衬底上表面包括光敏元件阵列，以及位于光敏元件阵列下方的牺牲层；在所述衬底的光敏元件上沉积微透镜牺牲层，在所述微透镜牺牲层中制作微透镜支撑柱；在包括微透镜牺牲层的衬底上涂覆微透镜材料层，刻蚀所述微透镜材料层形成微透镜材料阵列；热处理微透镜材料阵列形成聚能微透镜阵列；释放微透镜牺牲层和位于光敏元件阵列下方的牺牲层。
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