[发明专利]一种自支撑分子印迹聚合物膜的制备方法

摘要

本发明涉及一种自支撑分子印迹聚合物膜的制备方法。该方法通过二价金属离子和多孔氧化铝薄膜反应得到多孔氧化铝基层状双氢氧化物；然后通过进一步反应反应得到SBC插层的多孔氧化铝基层状双氢氧化物；最后将其与可聚合单体、聚合交联剂、分子印迹模板剂和有机溶剂混合并用超声波分散，加入自由基聚合引发剂进行聚合，反应得到的产物经过洗涤后干燥，获得自支撑分子印迹聚合物膜。本发明的自支撑分子印迹聚合物膜能够充分发挥无机材料强度高、耐腐蚀、耐高温、比表面积大和有机高分子材料负载信息量大、性能可调的优点，辅以可控/活性自由基聚合，利用活性链增长过程的可控性，能够实现分子印迹材料超细、超薄纳米自支撑结构的可控合成。

主权项

一种自支撑分子印迹聚合物膜的制备方法，其特征在于该方法具有如下工艺过程：A.在二价金属离子和六亚甲基四胺浓度均为0.01～0.02摩尔/升的混合水溶液中，加入二价金属离子总摩尔量0.1~0.5倍的多孔氧化铝薄膜，在10～95℃下，反应0.5～72小时后将产物水洗和干燥，得到以多孔氧化铝基层状双氢氧化物；B.在摩尔浓度为0.01~0.03摩尔/升、pH值为7~12的S‑硫代苯甲酰巯基乙酸碱性水溶液中，加入S‑硫代苯甲酰巯基乙酸摩尔总量0.1~2倍的多孔氧化铝基层状双氢氧化物，在10~80℃下，反应0.5~24小时，将产物水洗并在5~70℃下干燥，得到S‑硫代苯甲酰巯基乙酸插层的多孔氧化铝基层状双氢氧化物；C.然后将100重量份可聚合单体、6～18重量份S‑硫代苯甲酰巯基乙酸插层的多孔氧化铝基层状双氢氧化物、500~1200重量份的聚合交联剂、10~20重量份的分子印迹模板剂和500~2000重量份有机溶剂混合并用超声波分散，密封通氮气除氧；然后将1～10重量份自由基聚合引发剂分散于500~1500重量份的乙腈中，用注射器加入混合溶液中；在30~70℃下反应8～48小时，产物依次用氯仿、体积比为1~5的甲醇/乙酸混合溶液、甲醇和丙酮洗涤后干燥，即得自支撑分子印迹聚合物膜。