[发明专利]一种去离子水槽无效
| 申请号： | 201110250237.1 | 申请日： | 2011-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN102441542A | 公开（公告）日： | 2012-05-09 |
| 发明（设计）人： | 陈勇志;邢杰;王贝易;倪立华 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 王敏杰 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种外表面带有防水挡板的去离子水槽，其包括水槽主体，过渡传感器，上挡板和侧挡板。过渡传感器固定在离子水槽的外表面上，上挡板固定在过渡传感器的上方，侧挡板与上挡板相连接，固定在过渡传感器的两侧。使水槽内溢出来的水流向发生改变而不经过晶圆过渡传感器，不但延长传感器密封圈的寿命，也保护了传感器正常工作，避免晶圆误被探测而发出报警信号中断整个研磨过程，导致晶圆研磨的不持续性，造成晶圆存在表面缺陷，非常适于实用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子 水槽 | ||
【主权项】：
一种去离子水槽，其包括水槽主体，过渡传感器，上挡板和侧挡板，其特征在于，过渡传感器固定在离子水槽的外表面上，上挡板固定在过渡传感器的上方，侧挡板与上挡板相连接，固定在过渡传感器的两侧。
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