[发明专利]一种蚀刻低辐射薄膜的可印刷的蚀刻膏、蚀刻方法及制品有效
| 申请号： | 201110220857.0 | 申请日： | 2011-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN102424529A | 公开（公告）日： | 2012-04-25 |
| 发明（设计）人： | 何立山;福原康太;袁军林 | 申请（专利权）人： | 福耀玻璃工业集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350301 福建省福*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种蚀刻低辐射薄膜的可印刷的蚀刻膏、蚀刻方法及制品，涉及镀膜玻璃加工领域，该蚀刻膏包括酸性蚀刻剂、无机颗粒、碘的醇溶液以及非必要的添加剂，可通过丝网印刷、模板印刷、喷墨印刷等印制技术印制在低辐射薄膜玻璃上，形成图案化的低辐射镀膜玻璃。优点是：采用较少的成分配制出一种可完全蚀刻低辐射膜层特别是汽车前挡低辐射膜层的蚀刻膏，原料简单，成本较低，并起到很好的蚀刻效果，借助该蚀刻膏可以在Low-e膜上选择性蚀刻精细结构而不会或较少损害或侵蚀相邻区域，而且所用时间短、速度快、温度低，使其蚀刻出的1.0mm线宽的两侧的电阻达到MΩ级别，能大于20MΩ。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 蚀刻 辐射 薄膜 可印刷 方法 制品 | ||
【主权项】：
一种蚀刻低辐射薄膜的可印刷的蚀刻膏，包括酸性蚀刻剂和无机颗粒，其特征在于：所述酸性蚀刻剂质量百分比为30～70％；所述无机颗粒质量百分比为10～60％；还包括碘的醇溶液，其质量百分比为5～20％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福耀玻璃工业集团股份有限公司，未经福耀玻璃工业集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201110220857.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
