[发明专利]一种用于硬盘盘基片超精密表面制造的抛光组合物有效
| 申请号： | 201110216580.4 | 申请日： | 2011-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN102358824A | 公开（公告）日： | 2012-02-22 |
| 发明（设计）人： | 潘国顺;周艳;罗桂海;雒建斌;路新春;刘岩 | 申请（专利权）人： | 清华大学;深圳清华大学研究院;深圳市力合材料有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;B24B29/02 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 童晓琳 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了属于计算机存储器硬盘制造技术领域的一种用于硬盘盘基片超精密表面制造的抛光组合物。该抛光组合物包含磨料、腐蚀剂、氧化剂和水，其特征在于：该抛光组合物还包含稳定剂、抛光促进剂和抛光平衡剂，所述抛光促进剂为无机盐类，所述抛光平衡剂为有机酸盐类。本发明提供的抛光组合物主要适用于硬盘盘基片制造中的超精密抛光，具有抛光去除速率较高的特点，经其抛光后的盘基片表面超光滑，无凹坑、突起等缺陷，表面粗糙度在0.3埃以下、表面波纹度0.5埃以下，且有效消除表面微划痕、抛光痕迹等微缺陷。该抛光组合物适用于硬盘镍磷镀敷铝合金基片和玻璃基片等的超精密表面制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 盘盘 基片超 精密 表面 制造 抛光 组合 | ||
【主权项】：
一种用于硬盘盘基片超精密表面制造的抛光组合物，包含磨料、腐蚀剂、氧化剂和水，其特征在于：该抛光组合物还包含稳定剂、抛光促进剂和抛光平衡剂，所述抛光促进剂为无机盐类，所述抛光平衡剂为有机酸盐类，所述抛光组合物的pH值为0.5～5。
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