[发明专利]用于量测的反射折射照射系统有效
| 申请号： | 201110169124.9 | 申请日： | 2011-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN102298204A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | S·Y·斯米诺夫;Y·K·什马利威 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G03F7/20;G01N21/956 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于量测的反射折射照射系统。一种反射折射光学系统在宽的光谱范围中操作。在实施例中，反射折射光学系统包括：第一反射表面，定位和配置成反射辐射；第二反射表面，定位和配置成将从所述第一反射表面反射的辐射反射作为准直束，所述第二反射表面具有孔阑以允许辐射透射穿过所述第二反射表面；和通道结构，从所述孔阑朝向所述第一反射表面延伸，且具有在所述第一反射表面和第二反射表面之间的出口，以将辐射供给至所述第一反射表面。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 反射 折射 照射 系统 | ||
【主权项】：
一种量测工具，包括：物镜，用于将辐射传递至表面和接收被所述表面改向的辐射；检测器，用于接收来自所述物镜的所述被改向的辐射；和照射系统，用于将用于改向的辐射传递至所述物镜，所述照射系统包括照射系统反射折射光学系统。
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