[发明专利]薄膜有效

专利信息
申请号: 201110144307.5 申请日: 2011-05-31
公开(公告)号: CN102729142A 公开(公告)日: 2012-10-17
发明(设计)人: 廖建茂;陈逸男;刘献文 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 中国台湾桃园县龟山*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种薄膜,适用于安装在化学机械研磨机的研磨头上,且薄膜包括主要部分及边缘部分。边缘部分位于主要部分的边缘,其特征在于主要部分与边缘部分之间的第一夹角为钝角。本发明可使经研磨后的基材具有较佳的表面平坦度。
搜索关键词: 薄膜
【主权项】:
一种薄膜,适用于安装在一化学机械研磨机的一研磨头上,该薄膜包括:一主要部分;以及一边缘部分,位于该主要部分的边缘,其特征在于该主要部分与该边缘部分之间的一第一夹角为钝角。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南亚科技股份有限公司,未经南亚科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201110144307.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种上研磨盘旋转式立式高强高脆材料研球机-201920182015.2
  • 孙巧玉;王鸿飞;袁晨;王猛;王一鸣;戴超;朱正旺;张宏伟 - 沈阳非晶金属材料制造有限公司
  • 2019-02-01 - 2019-11-12 - B24B37/11
  • 本实用新型目的在于提供一种上研磨盘旋转式立式高强高脆材料研球机,其特征在于:所述研球机设有上研磨盘、下研磨盘、导柱、活动横梁和机座,其中:机座上均匀分布有多个导柱,导柱之间设有活动横梁,活动横梁与液压油缸相连,用于控制活动横梁沿导柱做升降运动;上研磨盘通过主轴固定在活动横梁下方,主轴通过皮带轮和减速机与电机相连,电机通过主轴控制上研磨盘的转动;下研磨盘通过下研磨盘装卸孔固定在机座上表面。本实用新型所述立式研球机解决了因下研磨盘旋转研磨料飞溅所导致的球体破碎的问题,提高了良品率与粗糙度的同时也提高了研磨效率,工作更加稳定可靠。
  • 研磨环结构以及研磨头-201821657993.X
  • 黄高;宋闯;田茂 - 德淮半导体有限公司
  • 2018-10-12 - 2019-11-05 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种研磨环结构以及研磨头,包括一环形本体,环形本体具有第一圆环部和第二圆环部,第一圆环部远离环形本体中心,第二圆环部靠近环形本体中心,以及若干环设于第一圆环部上且间隔排列的研磨齿;研磨齿包括一研磨面,研磨面从靠近环形本体中心到远离环形本体中心收缩;相邻两个所述研磨齿之间设有间隙,间隙从靠近环形本体中心到远离环形本体中心扩大。本实用新型产生的碎屑会从研磨面的腰排出,其排出方向为朝向研磨环外侧进而达到了减少碎屑排向研磨环内目的,具有降低晶圆刮伤风险的优点。
  • 一种防堵塞抛光研磨盘-201920305705.2
  • 方遥 - 丹阳市励高研磨材料有限公司
  • 2019-03-11 - 2019-11-05 - B24B37/11
  • 一种防堵塞抛光研磨盘,包括由研磨片沿周向层叠组成的研磨轮,所述研磨片包含基材层和磨料层,其特征在于:所述基材层包括至少一层镂空网格布,所述磨料层附着于基材层的正面,该磨料层为砂层,所述基材层的背面设有绒布层,所述研磨盘通过胶水与纤维网盖连接,所述镂空网格布为尼龙网格布或纤维网格砂布。
  • 一种半导体材料研磨设备-201920451761.7
  • 魏欢;贺振华 - 上海仪恩埃半导体设备有限公司
  • 2019-04-04 - 2019-11-05 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种半导体材料研磨设备,包括底座、研磨电机、研磨轮,所述底座上部固定连接有放置台,所述放置台中部设置有放置槽,安装架上设有多组液压伸缩杆,所述液压伸缩杆底部设置有安装壳和研磨卡头,所述研磨卡头内设置有所述研磨轮,所述安装壳内部设置有所述研磨电机,所述底座内部设置有储水箱和水泵,所述放置台内部设置有喷水管道,所述储水箱内部设置有液位传感器。本实用新型具有可提高研磨质量、具有降温、清洗功能的优点,其主要用于半导体材料研磨。
  • 一种半导体芯片制造工艺-201810534755.8
  • 李涵;潘万胜 - 江苏锡沂高新区科技发展有限公司
  • 2018-05-29 - 2019-11-01 - B24B37/11
  • 本发明属于半导体领域,具体的说是一种半导体芯片制造工艺,该工艺以高纯度复晶硅作为原材料,将原材料进行多次处理形成硅晶圆晶棒,再经过切片研磨和抛光等步骤制造出晶圆薄片,其中研磨用到的研磨设备包括底座、电机、一号支撑轴、支撑模块、晶圆、压紧模块和夹紧模块,当需要对晶圆进行研磨时,先将晶圆放到支撑模块中的研磨布上,压紧模块中衬垫将晶圆压紧,不让其发生移动,再通过支撑模块中的研磨布对晶圆进行精磨,在支撑模块、压紧模块和夹紧模块的相互配合作用下实现晶圆底部的精磨和晶圆顶部的粗磨,该工艺流程简单,通过七个步骤相互配合,制造出的晶圆薄片表面光滑,厚度均匀,提高硅晶圆以及半导体芯片的制造质量。
  • 一种截止阀研磨装置-201920269930.5
  • 韦德强;卓振北;王端;闫兵兵;王运来 - 广西防城港核电有限公司;中国广核集团有限公司
  • 2019-03-04 - 2019-10-22 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种截止阀研磨装置,包括:上盖;下盖,其设置在上盖的下方并与上盖相连接,上盖和下盖开设有相连通的导向孔;导向筒,其被设置在导向孔中,并且导向筒的下端与下盖固定连接;研磨棒,研磨棒穿过导向筒,研磨棒的末端锥面上贴有研磨砂纸,通过导向筒导向,并通过旋转研磨棒对阀门阀座密封面进行研磨;其中,上盖开设有多个槽,每个槽安装有定位块并为定位块导向,定位块与导向筒之间设置有压紧环;以及两个控制杆,其与压紧环固定连接。本实用新型的截止阀研磨装置可以满足不同榫槽直径的截止阀的研磨要求,不再需要加工多套研磨装置,从而大大节省了工具制作成本。
  • 研磨抛光装置用磨头-201910687641.1
  • 刘高平 - 苏州昱耀模具科技有限公司
  • 2019-07-29 - 2019-09-27 - B24B37/11
  • 一种研磨抛光装置用磨头,包括本体和盖板,该本体包括套筒和柄杆,所述套筒和柄杆固定连接,所述盖板穿过柄杆固设于套筒的一端的端部;所述套筒内开设有多个通孔,该通孔内容纳有研磨针;所述通孔由第一段和第二段构成,所述第二段的直径大于第一段的直径,且所述第一段远离盖板;所述研磨针的中部设有凸起,该凸起将所述研磨针分为两部分,第一部分为打磨部,第二部分为安装部,所述打磨部由所述通孔的第一段伸出通孔之外,所述安装部上套设有弹簧,该弹簧一端与所述研磨针的凸起抵触设置,另一端与所述盖板抵触设置,所述凸起和安装部的长度之和小于通孔的第二段的长度。本发明的弹簧的柔性伸缩可以让研磨针再研磨过程中始终贴在工件的表面进行工作,从而适用于异形面的研磨抛光。
  • 用于凸圆锥滚子滚动面精加工的磁性研磨盘及设备-201821208933.X
  • 任成祖;张婧;陈光;刘伟峰;靳新民;闫传滨;陈洋;张云辉 - 天津大学
  • 2018-07-28 - 2019-09-17 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种用于铁磁性材质凸度圆锥滚子滚动表面精加工的研磨设备和磁性研磨盘套件,研磨设备包括主机、磁性研磨盘套件和滚子循环盘外系统。主机包括基座、立柱、横梁、滑台、上托盘、下托盘、轴向加载装置和主轴装置。滚子循环盘外系统包括滚子收集装置、退磁装置、输送系统、整理机构和送进机构。磁性研磨盘套件包括一对同轴且正面相对布置的第一和第二研磨盘。第一研磨盘正面包括一组放射状分布于第一研磨盘基面(内凹圆弧回转面)的内凹弧线沟槽,第二研磨盘正面包括一条或多条分布于第二研磨盘基面(外凸圆弧回转面)的螺旋槽,其基体内部嵌装有环状磁性结构。本实用新型研磨设备具有大批量铁磁性材质的凸度圆锥滚子滚动表面的精加工能力。
  • 用于圆锥滚子滚动表面精加工的磁性研磨盘及设备-201821208957.5
  • 任成祖;刘伟峰;葛翔;张婧;靳新民;闫传滨;杨影;何庆顺 - 天津大学
  • 2018-07-28 - 2019-09-17 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种用于铁磁性材质的圆锥滚子滚动表面精加工的研磨设备和磁性研磨盘套件,研磨设备包括主机、磁性研磨盘套件和滚子循环盘外系统。主机包括基座、立柱、横梁、滑台、上托盘、下托盘、轴向加载装置和主轴装置。滚子循环盘外系统包括滚子收集装置、滚子退磁装置、滚子输送系统、滚子整理机构和滚子送进机构。磁性研磨盘套件包括一对同轴、且正面相对布置的第一和第二研磨盘。第一研磨盘的正面包括一组放射状分布于第一研磨盘基面(正圆锥面)的直线沟槽,第二研磨盘的正面包括一条或多条分布于第二研磨盘基面(正圆锥面)的螺旋槽,其基体内部嵌装有环状磁性结构。本实用新型研磨设备具有大批量铁磁性材质的圆锥滚子滚动表面的精加工能力。
  • 一种超细粉体的超精密研磨头-201822261875.3
  • 李承鸿;吕晔平 - 常州中天新材料股份有限公司
  • 2018-12-30 - 2019-09-10 - B24B37/11
  • 本实用新型涉及加工装置技术领域,且公开了一种超细粉体的超精密研磨头,包括装置壳体,所述装置壳体的左侧活动连接有动力杆,所述动力杆的右端贯穿并延伸至装置壳体的右侧,所述动力杆位于装置壳体内部的外侧固定套装有定位套筒,所述定位套筒的外壁固定安装有弹性装置,所述弹性装置远离定位套筒的一侧固定安装有封闭套筒。该超细粉体的超精密研磨头,当动力杆进行传动连接,随后动力杆通过传动齿轮啮合传动伸缩套进行联动传动,继而传动封闭套筒和研磨外筒进行旋转研磨,在研磨过程中,通过伸缩弹杆和减压弹簧进行弹性减压,保证了研磨头在给予压力的同时又降低了研磨头磨损速率,即可达到研磨头柔性卸力寿命长的效果。
  • 一种门线浮动研磨头-201920019711.1
  • 彭小军 - 重庆耐德摩托车零件制造有限公司
  • 2019-01-07 - 2019-09-10 - B24B37/11
  • 本实用新型公开一种门线浮动研磨头,包括研磨导向套,所述研磨导向套的上端中央处嵌入安装有圆柱螺旋压缩弹簧,所述圆柱螺旋压缩弹簧上设置有研磨轴,所述研磨轴上套装有研磨头,还包括壳体,所述壳体位于研磨轴和圆柱螺旋压缩弹簧的外侧,所述研磨轴通过内六角圆柱头螺钉固定在壳体上,所述内六角圆柱头螺钉的顶端设置有六角螺母。研磨头改善后,将原始的手工研磨式加工改为多头钻自动化研磨加工,有效的降低在缸头在研磨门线工序中的劳动强度,提升其加工效率。
  • 一种研磨盘-201821625356.4
  • 贺勇;邓有财;林旭明 - 厦门三安光电有限公司
  • 2018-09-30 - 2019-09-06 - B24B37/11
  • 本实用新型公开一种研磨盘,研磨盘的环形表面上设研磨沟槽,沟槽的槽壁与沟槽的中心线的夹角是0~5°,本实用新型的研磨盘与研磨抛光液配合,可用于对晶片进行研磨或者抛光,具有寿命长、移除率高且避免晶片研磨抛光过程中深刮等优点。
  • 一种研磨机用磨头座组合装置-201822168203.8
  • 刘武;肖镇核;熊天鹏 - 肇庆美凌环保机械科技有限公司
  • 2018-12-24 - 2019-09-06 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种研磨机用磨头座组合装置,包括磨头座、轴套筒和滑动轴外套,所述磨头座内部设有空腔,所述磨头座套设在所述轴套筒上部,所述轴套筒内设有连接轴,所述连接轴上部设有滑动键,所述连接轴下端连接有抛光组件,所述滑动轴外套套设在所述连接轴上端并安装在所述磨头座顶部,所述磨头座外侧铰接有升降气缸,所述升降气缸的输出端设有活动接头,所述活动接头一端与所述轴套筒下部活动连接。采用上述技术方案,磨头座套设在连接有连接轴的轴套筒上部,并在磨头座外侧单独设立了与轴套筒下部活动连接的升降气缸,采用独立升降结构,当单独磨头出现故障时,单独抬起故障部分,无需整机停机,设备可照常运行,进一步地提高生产效率。
  • 基于粘弹性材料的加工感应型研磨垫-201910490838.6
  • 赵盼盼;尹永仁 - 嘉兴星微纳米科技有限公司
  • 2019-06-06 - 2019-09-03 - B24B37/11
  • 本发明涉及磨削加工领域,特别涉及一种研磨垫。所述研磨垫包括垫体和填充物,所述填充物包括粘合剂和磨料;所述粘合剂包括具有粘弹性的材料制成,所述垫体上至少部分附着有所述填充物。相对于现有技术,利用粘弹性材料来粘合磨料并将混合的填充物设置在研磨垫的垫体上,融合了固着磨粒研磨和游离磨粒研磨的优点,提高了加工效率,减少了工件表面的损伤;提高研磨精度。
  • 用于表面研磨的柔性磨料以及基于该磨料的磁性研磨组件-201611264531.7
  • 赵善文 - 深圳市五湖智联实业有限公司
  • 2016-12-30 - 2019-08-30 - B24B37/11
  • 本发明公开了一种用于非磁性材料表面研磨的柔性磨料,使用水基、油基中的一种作为基础载体,在基础载体中含直径10微米下的铁粉,基础载体中添加有直径50微米以下的三氧化二铝、直径5微米纯铁粉、植物纤维素。本发明的磨料研磨精度高、研磨效果好,特别适用于不锈铁表面的光面研磨加工,同时本发明公开的磁性研磨组件利用超声波振动器可实现微观下的多向研磨加工,可避免生成光面刀纹,同时,通过配比柔性磨料实现不同表面精度的研磨,可加工出类镜面不锈钢面。
  • 一种单面研磨机压头装置-201821947278.X
  • 苏静洪;裴忠;张王锋;朱勤超;梁文 - 天通日进精密技术有限公司
  • 2018-11-23 - 2019-08-27 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种单面研磨机压头装置,包括:贴附有抛光膜的压盘装置及驱动压盘装置上下动作的第一驱动装置;压盘装置与第一驱动装置固定连接;其中,所述压盘装置包括:可水平转动的安装在第一驱动装置上的第一压盘,所述第一压盘工作面上设置有凹槽;所述凹槽内设置有第二压盘,所述第二压盘工作面不突出于第一压盘工作面;第一压盘内还设置有抛光时驱动第二压盘抵压在抛光膜上的第二驱动装置。通过在压盘装置中设置第二压盘以及抛光时驱动第二压盘抵接在抛光膜上的第二驱动装置,实现了压力的区域分布,将载物盘的形变量控制在一个合理的范围内,从而使得载物盘上的内外圈晶圆在抛光后,厚度差保持在一定范围以内,提升了晶圆抛光的质量。
  • 抛光盘及其冷却装置-201410235835.5
  • 杨贵璞;王坚;王晖 - 盛美半导体设备(上海)有限公司
  • 2014-05-30 - 2019-08-16 - B24B37/11
  • 本发明揭示了一种抛光盘的冷却装置,应用于抛光盘,该冷却装置包括:开设在抛光盘上的冷却水入口和冷却水出口;开设在抛光盘中的环形的回液槽和回液通道,回液通道的一端与回液槽连通,回液通道的另一端与冷却水出口连通;开设在抛光盘中的冷却水沟槽,冷却水沟槽位于抛光盘中被回液槽包围的区域,冷却水沟槽均匀分布且呈树枝状,每一冷却水沟槽包括主沟槽和侧沟槽,主沟槽的一端与冷却水入口连通,主沟槽的另一端与回液槽连通,侧沟槽的一端分别与主沟槽连通,侧沟槽的另一端分别与回液槽连通。本发明还揭示了一种采用上述冷却装置的抛光盘。
  • 一种精抛棉-201822152975.2
  • 卞振伟;方红;刘宜彪 - 东莞金太阳研磨股份有限公司
  • 2018-12-20 - 2019-08-16 - B24B37/11
  • 本实用新型涉及磨具技术领域,尤其是指一种精抛棉,其包括依次复合的海绵层、基布层、胶层和研磨层,所述研磨层包括设于胶层上的多个用于研磨抛光的主研磨单元和多个用于协助主研磨单元进行研磨抛光的辅研磨单元,所述主研磨单元呈锥形,所述主研磨单元的尖端设于远离胶层的一侧,所述主研磨单元远离胶层的端部高于所述辅研磨单元远离胶层的端部,具有对产品表面进行研磨抛光处理的功能,且磨料磨损小,研磨抛光效果好。
  • 研磨装置及其研磨方法-201610053780.5
  • 周景星 - 周景星
  • 2016-01-27 - 2019-07-26 - B24B37/11
  • 本发明公开了一种研磨装置及其研磨方法,其中研磨装置包含承载盘、至少一个被研磨物、砂轮盘及多个研磨齿。承载盘旋转工作。至少一个被研磨物定位于承载盘上。砂轮盘相对应承载盘旋转工作。多个研磨齿连接砂轮盘,多个研磨齿接触研磨被研磨物,各研磨齿研磨于被研磨物的表面上而产生研磨面积,各研磨齿与对应的虚拟放射线相交一研磨角度,虚拟放射线与砂轮盘的中心相交且与相对应研磨齿的中心相交,且研磨角度大于0度且小于35度。借此,本发明的研磨装置及其研磨方法,利用特殊的研磨角度配合相对应参数,可使被研磨物的表面产生较大的研磨面积、等量研磨且能顺利排屑,进而缩小总厚度变异。
  • 一种可调节研磨程度的磨料磨具-201821948805.9
  • 阮秀仕;吴鹏 - 福建瑞祺新材料有限公司
  • 2018-11-23 - 2019-07-26 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种可调节研磨程度的磨料磨具,包括第一磨盘、第二磨盘和第三磨盘,所述第一磨盘固定设置在第一安装架的底部,所述第二磨盘固定设置在第二安装架的底部,所述第三磨盘固定设置在第三安装架的底部,所述第一安装架的顶部中心处固定设置有第一齿圈,所述第一齿圈与第一齿轮啮合,所述第二安装架的顶部中心处固定设置有第二齿圈,所述第二齿圈与第二齿轮啮合,所述第三安装架的顶部中心处固定设置有第三齿圈,所述第三齿圈与第三齿轮啮合,所述第一齿轮、第二齿轮和第三齿轮从上到下依次固定套设在主轴上。本实用新型通过设置第一磨盘、第二磨盘、第三磨盘和电动伸缩杆,解决了传统的磨料磨具难以调节研磨程度的问题。
  • 对象体研磨装置-201821194832.1
  • 张道祥;洪侊杓 - 株式会社PDT
  • 2018-07-26 - 2019-07-16 - B24B37/11
  • 本实用新型公开一种对象体研磨装置。所述对象体研磨装置包括:工作台,其能够移动且能够用于配置对象体;研磨单元,其可旋转地位于工作台上,具有外壳部、设置于外壳部内且利用至少一个永磁铁向供应到对象体上的磁流变流体施加磁场以排列磁流变流体的磁场发生部及与磁场发生部相邻且利用电磁铁将永磁铁的磁场限制在外壳部内部的磁场限制部;磁流变流体供应部,其能够向对象体上供应磁流变流体;以及研磨液供应部,其向磁流变流体与对象体之间供应研磨用研磨液。因此,能够将大面积的对象体整体研磨均匀。
  • 一种陶瓷加工用研磨设备-201822068775.9
  • 李小安 - 江西省环球陶瓷有限公司
  • 2018-12-11 - 2019-07-16 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种陶瓷加工用研磨设备,包括研磨头,所述研磨头外侧置有环形管,所述环形管内侧开设有多组均匀排列的吸尘口,所述环形管右侧开设有排出口,所述排出口右侧连通有排送管一端,所述排送管底部末端与回收腔连通,所述回收腔位于设备框右侧外壁底部,所述排送管中部安装有微型引风机。本实用新型通过安装有环形管、吸尘口和微型引风机,电机带动转动杆的研磨头对陶瓷表面打磨,微型引风机通过环形管的吸尘口将打磨产生的研磨粉吸入,经排送管送至回收腔内,防止打磨产生的研磨粉扬起和附着在陶瓷表面,阻碍打磨者视线,提高打磨效率,同时防止研磨粉被打磨者吸入,保障工作人员人身安全,适合广泛推广与使用。
  • 研磨装置-201821568933.0
  • 苗海涛;张萌萌 - 中核检修有限公司
  • 2018-09-25 - 2019-07-12 - B24B37/11
  • 本实用新型适用于金属表面修复工具领域,提供一种平面阀芯研磨装置,包括:研磨组件,包括用于承载所述平面阀芯的研磨盘以及用于限制所述平面阀芯水平移动的定位架,所述定位架在人手对所述平面阀芯施加向下按压的作用力时避让人手;传动组件,用于接收扭矩并将扭矩传动到所述研磨盘以使所述研磨盘转动;驱动组件,包括向所述传动组件提供转动扭矩的电机,和调节所述电机转速的调速器;其中,研磨盘的转动轴线竖直设置。本实用新型提供的研磨装置结合平面阀芯的特点设置了研磨盘和定位架,结构简单,操作方便且便于维护。采用电机、传动组件的配合,实现研磨盘的机械转动节约了人工成本,提高作业效率。设备整体结构简单,实用,造价成本低。
  • 研磨材的制造方法及研磨材-201811589757.3
  • 下山贤治;笹岛启佑 - 阪东化学株式会社
  • 2018-12-25 - 2019-07-05 - B24B37/11
  • 本发明的目的在于提供一种研磨材的制造方法及研磨材,所述研磨材即便增厚研磨层,厚度方向上的均质性也得到保证,可在维持优异的研磨速率及平坦化精度的同时提高寿命。本发明是一种研磨材的制造方法,所述研磨材包括基材;以及积层于该基材的表面侧且包含研磨粒、填充剂及粘合剂的研磨层,所述研磨材的制造方法包括:制备步骤,制备包含研磨粒、填充剂及粘合剂的研磨层用组合物;涂敷步骤,将研磨层用组合物涂敷于基材的表面;以及加热步骤,对涂敷步骤后的研磨层用组合物进行加热,在制备步骤中,将研磨层用组合物的固体成分中的研磨粒及填充剂的合计含量设为60体积%以上且85体积%以下。
  • 一种用于研磨装置的新型研磨头-201821675862.4
  • 张传民 - 上海华力微电子有限公司
  • 2018-10-16 - 2019-06-28 - B24B37/11
  • 本实用新型涉及一种用于研磨装置的新型研磨头,包括:一主体,所述主体设置有第一通道和第二通道;一第一膜,所述第一膜设置在所述主体的下侧,所述第一膜与所述主体进行连接,所述第一膜与所述主体之间形成一压力室,所述第一通道与所述压力室连通;一第二膜,所述第二膜设置在所述第一膜的下侧,所述第二膜与所述主体进行连接,所述第二膜与所述第一膜之间形成一空腔,所述空腔与所述第二通道连通;一保护环,所述保护环设置在所述主体的下侧;所述第二膜上设置有复数个孔洞。其优点在于,利用第二膜吸附晶圆,减少了保护环对晶圆施加的压力,使保护环对晶圆施加的压力小于第一膜对晶圆施加的压力;提高晶圆良率,降低生产成本。
  • 一种具有夹具的湿法研磨装置-201821719844.1
  • 王韡韡;黄晨欢;王华;郭中富;李姗姗;朱立中 - 杭州特莱斯化工设备有限公司
  • 2018-10-23 - 2019-06-11 - B24B37/11
  • 本实用新型公开了一种具有夹具的湿法研磨装置,包括固定座,所述固定座的顶端连接有固定柱,所述固定柱的外侧壁连接有控制开关,所述控制开关的顶部安装有电子式计时器,所述固定柱的顶部连接有液压升降活塞杆,所述液压升降活塞杆的顶端连接在固定架的底部,所述固定架的顶端位于固定柱的前侧安装有电机,所述电机底部位于固定架的下方连接有刻度杆。本实用新型便于对研磨时间进行计时,防止研磨时间较短造成研磨不到位或研磨时间过长导致磨损严重影响产品质量,且便于操作者观察和控制研磨盘的研磨深度,并通过控制夹具机构对待加工物体进行夹持固定,既提高了研磨时的精确性,也提高了研磨时的稳定性。
  • 一种带动态研磨功能的上磨机构-201811584779.0
  • 刘海 - 刘海
  • 2018-12-25 - 2019-06-07 - B24B37/11
  • 本发明公布了一种带动态研磨功能的上磨机构,它包括支撑架、减速电机、旋转轴和上磨体,减速电机固定在支撑架上,旋转轴竖直安装在减速电机输出端的第一偏心轴承上,上磨体固设在旋转轴的底部;旋转轴的上端固定连接第二偏心轴承,第二偏心轴承与水平板的中部连接,水平板左右两端与伸缩机构连接,它还包括用于控制上磨体偏心研磨的左右摇摆控制机构。本发明的目的是提供一种带动态研磨功能的上磨机构,能够实现偏心动态研磨,解决了现有研磨机集中研磨造成研磨不均匀的情况,提高了研磨质量。
  • 一种带有清洁装置的钢珠研磨机-201821289207.5
  • 朱云峰 - 浙江杰奈尔新材料有限公司
  • 2018-08-10 - 2019-05-28 - B24B37/11
  • 本实用新型具体涉及一种带有清洁装置的钢珠研磨机,包括工作台、磨盘,所述磨盘包括上磨盘、下磨盘,所述上磨盘和下磨盘互相相对的一面均设有若干条凸起的磨纹,两相邻所述磨纹之间形成凹槽,所述磨盘一侧的工作台上还设有一用于清洁所述磨盘内的铁屑或杂质的清洁装置。本实用新型的目的在于提供一种带有清洁装置的钢珠研磨机,清洁装置能对上下磨盘内的污物进行清洁,甚至可以清洁相邻磨纹之间的凹槽内的杂质和铁屑。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top