[发明专利]访问包含认证私密钥的集成电路的方法和系统有效

专利信息
申请号: 201110132298.8 申请日: 2011-05-20
公开(公告)号: CN102354413B 公开(公告)日: 2017-01-18
发明(设计)人: B·科利耶;R·西米琼莫 申请(专利权)人: 欧贝特技术公司
主分类号: H04L9/08 分类号: H04L9/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 余全平
地址: 法国勒瓦*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及电子集成电路(10i)的领域,并且更为特别地涉及访问这类集成电路的方法和系统。所述方法包括一认证步骤(E13′,E13″)利用访问装置(320),通过使用所述集成电路特有的并存储在该集成电路中的认证私密钥(MSKDi),对所述集成电路进行认证,所述认证私密钥通过分散化根密钥(MSK)生成。此外,通过分散化所述根密钥(MSK)的生成方法实施至少两个分散化密钥的步骤(S1,S2)。所述访问装置(320)从中央工场(100)接收一中间密钥(MSKL),所述中间密钥(MSKL)产生于分散化所述根密钥(MSK)的第一分散化步骤(S1)。
搜索关键词: 访问 包含 认证 密钥 集成电路 方法 系统
【主权项】:
一种集成电路(10i)的生产方法,所述方法在集成电路的定制工场(300)处包括:‑从制造工场接收集成电路;‑一认证步骤:在定制工场中利用访问和定制装置(320),通过使用所述集成电路特有的并存储在该集成电路中的认证私密钥,对所接收的集成电路进行认证,所述认证私密钥通过分散化根密钥生成;‑在成功认证的情况下,在定制工场中使用该集成电路特有的数据通过访问和定制装置(320)定制该集成电路;其特征在于:‑通过分散化所述根密钥生成所述认证私密钥实施至少两个分散化密钥的步骤,并且‑所述访问和定制装置(320)从中央工场(100)接收一中间密钥,所述中间密钥产生于分散化所述根密钥的第一分散化步骤,所述访问和定制装置基于所述中间密钥在不知道所述根密钥的情况下来实现认证步骤。
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