[发明专利]用于高温环境的N-Ge-Te相变存储材料及制备方法有效
| 申请号： | 201110031815.2 | 申请日： | 2011-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN102623632A | 公开（公告）日： | 2012-08-01 |
| 发明（设计）人： | 彭程;吴良才;饶峰;宋志棠;周夕淋;朱敏;刘波 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | H01L45/00 | 分类号： | H01L45/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 200050 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种用于高温环境的N-Ge-Te相变薄膜材料及其制备方法，该材料的组分通式为Nx（GeyTe1-y）1-x，其中0＜x≤0.15，0.5＜y≤0.9，在外部电脉冲的作用下实现可逆相变。该材料可采用磁控溅射中多靶共溅射的方法制备。本发明立足于相变材料非晶态的稳定性问题，通过调节化合物中掺杂N的含量和Ge、Te的比例，在不丢失可逆相变能力的前提下大幅度提高材料的结晶温度和结晶激活能。Nx（GeyTe1-y）1-x与传统的Ge2Sb2Te5材料相比有更高的结晶温度、更好的热稳定性和数据保持力，为相变存储器在航天航空领域的应用打好基础。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 高温 环境 ge te 相变 存储 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于高温环境的N‑Ge‑Te相变存储材料，其特征在于：是一种含有氮、锗、碲三种元素的混合物，其组成通式为Nx(GeyTe1‑y)1‑x，其中0＜x≤0.15，0.5＜y≤0.9。
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