[发明专利]取向碳纳米管集合体生产用基材以及取向碳纳米管集合体的制造方法在审
| 申请号： | 201080007140.1 | 申请日： | 2010-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN102325720A | 公开（公告）日： | 2012-01-18 |
| 发明（设计）人： | 高井广和;畠贤治;汤村守雄 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社;独立行政法人产业技术总合研究所 |
| 主分类号： | C01B31/02 | 分类号： | C01B31/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 张涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的取向碳纳米管集合体生产用基材是一种为了在该表面生成取向碳纳米管集合体的取向碳纳米管集合体生产用基材，具备金属基板和在该金属基板的表面以及背面上形成的防渗碳层。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 纳米 集合体 生产 基材 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种取向碳纳米管集合体生产用基材，其用来在表面生成取向碳纳米管集合体，其具备金属基板和，在该金属基板的表面以及背面上形成的防渗碳层。
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