[发明专利]转印膜结构无效
| 申请号： | 201010553124.4 | 申请日： | 2010-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN102059871A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 曾水泉 | 申请（专利权）人： | 琨诘电子（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | B41M5/00 | 分类号： | B41M5/00;B32B27/06;B44C5/04 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林;王寿刚 |
| 地址： | 215321 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰绞层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。本发明在饰纹层和黏着膜层之间增设第二硬化膜层，第二硬化膜层将可阻挡黏着膜层的胶水渗入饰纹层，以防止油墨图纹遭受破坏，并可同时强化膜层结构强度，从而达到提升转印膜制程合格率的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 膜结构 | ||
【主权项】：
转印膜结构，其特征在于包括一基底薄膜层；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一第一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰绞层，设置于该第一硬化膜层的上表面；一第二硬化膜层，设置于该饰纹层的上表面；以及一黏着膜层，设置于该第二硬化膜层的上表面。
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