[发明专利]寒富苹果矮干高冠栽植法无效
申请号: | 201010523897.8 | 申请日: | 2010-10-28 |
公开(公告)号: | CN101978818A | 公开(公告)日: | 2011-02-23 |
发明(设计)人: | 李茂生;李光明 | 申请(专利权)人: | 李茂生;李光明 |
主分类号: | A01G17/00 | 分类号: | A01G17/00;A01B79/00 |
代理公司: | 沈阳利泰专利商标代理有限公司 21209 | 代理人: | 李枢 |
地址: | 118100 辽宁省凤城*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 寒富苹果矮干高冠栽植法,包括以下工艺步骤:1、建园时选择园址。2、整地。3、挖栽植沟:沟深0.8米,宽0.6-0.7米;挖穴深0.8米,1米直径圆形或方形均可,表土与心土分别堆放,不让土层混乱。4、整地时间最好在秋季或上冬前进行。5、栽植沟(穴)挖完之后,应往沟铺一层秸秆或杂草等枯枝乱叶,然后回填心土沉实,再回填表层土起畦,畦高于地面0.5-0.6米处栽植苹果苗木。本项发明的优点:这种栽植苹果树方法能提高苗木栽植后受光面积,提高阳光的利用率,增加地温,使苗木根系很快恢复愈合组织进行吸收营养。 | ||
搜索关键词: | 苹果 矮干高冠 栽植 | ||
【主权项】:
寒富苹果矮干高冠栽植法,其特征包括以下工艺步骤:建园时选择园址:园址是一定要选择在水位较低,背风向阳,又便于灌溉的沙壤土为好;整地:如每亩栽植株数在50株要进行挖栽植沟,每亩栽植50株的要挖栽植穴;挖栽植沟的规格是:沟深0.8米,宽0.6‑0.7米;挖穴深0.8米,1米直径园形或方形均可,表土与心土分别堆放,不让土层混乱;整地时间最好在秋季或上冬前进行;栽植沟挖完之后,应往沟铺一层秸秆或杂草等枯枝乱叶,然后回填心土沉实,再回填表层土起畦,畦高于地面0.5‑0.6米处栽植苹果苗木;苗木的定干高度应在苗木0.65‑0.75米饱满芽处定干,这个高度再加畦高,树冠高度可达到1.1或1.3米的高度。
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