[发明专利]基于二维细分法的微小光斑强度分布测量方法

摘要

基于二维细分法的微小光斑强度分布测量方法，它涉及一种微小光斑强度分布的测量方法，它解决了目前无法对能量分布不均匀或者尺寸很小的光斑进行强度分布测量的问题。该测量方法将入射光斑完全照射到CCD探测器的光敏探测面的一个像元内，通过蛇形扫描的方式，记录各个扫描状态的灰度图像，通过计算可最终获得入射光光斑的强度分布。本发明能够对能量分布不均匀或者尺寸很小的光斑的强度分布进行直接测量，适用于微小光斑测量领域。

主权项

基于二维细分法的微小光斑强度分布测量方法，其特征在于它基于一个光斑测量装置实现，所述光斑测量装置由二维移动架(1)、CCD探测器(2)和数据采集单元(3)组成，所述CCD探测器(2)安装在二维移动架(1)上，CCD探测器(2)的电信号输出端连接数据采集单元的信号输入端；所述基于二维细分法的微小光斑强度分布测量方法的具体过程如下：步骤一、入射光入射到CCD探测器(2)的光敏探测面上，数据采集单元(3)实时监测并显示CCD探测器(2)输出的灰度图像；调整二维移动架(1)，使得入射光聚焦成的微小光斑完全照射到CCD探测器(2)的某个光敏像元上，将此时的灰度图像作为完整光斑产生的灰度图像保存，并将此时二维移动架(1)的位置记为P0；在CCD探测器(2)的接收面上建立X Y坐标系；用D1表示光敏面元的X向尺寸，D2表示光敏面元的Y向尺寸；步骤二、沿X轴正向调整二维移动架(1)，使入射光光斑从该光敏像元内向外移出，每次移动的步长为d0，且每移动一次记录下此时二维移动架(1)的位置及此时CCD探测器(2)的灰度图像，则当二维移动架(1)的位置与P0的距离等于D1 d0时，停止移动，并将此时二维移动架(1)的位置记为P1；步骤三、沿Y轴正向调整二维移动架(1)，使CCD探测器(2)的光敏像元沿Y轴正向移动一个步长d0，记录下此时CCD探测器(2)的灰度图像，并记录下当前二维移动架(1)的位置P1′；步骤四、判断此时二维移动架(1)的位置Pi′与P0的Y向距离是否达到D2 d0：若是，则执行步骤八；否则，执行步骤五；步骤五、沿X轴负向调整二维移动架(1)，每次移动的步长为d0，且每移动一次记录下此时二维移动架(1)的位置及此时CCD探测器(2)的灰度图像，当二维移动架(1)的位置与P1的距离等于D1 d0时，停止移动，并将此时二维移动架(1)的位置记为P2；步骤六、沿Y轴正向调整二维移动架(1)，使CCD探测器(2)的光敏像元沿Y轴正向移动一个步长d0，记录下此时CCD探测器(2)的灰度图像，并记录下当前二维移动架(1)的位置P2′；步骤七、判断此时二维移动架(1)的位置P2′与P0的Y向距离是否达到D2 d0：若是，则执行步骤八；否则，返回执行步骤二；步骤八、根据已记录的所有位置及各个位置对应的灰度图像，计算获得整个光斑的强度分布。