[发明专利]用于规整填料的填料层无效
| 申请号： | 201010157344.5 | 申请日： | 2010-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN101837277A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | I·奥斯纳;M·杜斯 | 申请（专利权）人： | 苏舍化学技术有限公司 |
| 主分类号： | B01J19/32 | 分类号： | B01J19/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 严志军;刘华联 |
| 地址： | 瑞士温*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于规整填料的填料层(10)，其具有波纹，其中波纹形成了多个敞开的通道(12，14，16)，其中通道包括第一波谷(22)、第一波峰(32)和第二波峰(42)。第一波峰(32)和第二波峰(42)界定了第一波谷(22)，其中第一波峰和第二波峰具有第一顶端(33)和第二顶端(43)。在第一波峰(32)的第一顶端(33)上形成了在第一顶端(33)方向上延伸的隔离元件(34)。第一波谷(22)具有谷底(23)，其中隔离元件(34)具有边缘(35)，与第一波峰(32)的顶端(33)相比，边缘(35)离波谷(22)的谷底(23)具有更大的垂直间距。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 规整 填料 | ||
【主权项】：
一种至少包括具有第一波纹的第一填料层(10)的规整填料(1)，其中，所述第一波纹形成了多个敞开的通道(12，14，16)，其中所述通道包括第一波谷(22)、第一波峰(32)和第二波峰(42)，其中所述第一波峰(32)和所述第二波峰(42)界定了所述第一波谷(22)，其中所述第一波峰和所述第二波峰具有第一顶端(33)和第二顶端(43)，其特征在于，在所述第一波峰(32)的第一顶端(33)上形成了在所述第一顶端(33)的方向上延伸的隔离元件(34)，并且所述第一波谷(22)具有谷底(23)，所述隔离元件(34)具有边缘(35)，与所述第一波峰(32)的第一顶端(33)相比，该边缘离所述波谷(22)的谷底(23)具有更大的垂直间距，由此所述规整填料包括第二填料层(100)，该第二填料层(100)具有第二波纹，由此所述第一填料层(10)的第一波纹设置成使得与所述第二填料层(10)的第二波纹产生交叉布置。
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