[发明专利]一种具有高峰值电流密度隧穿结的多结太阳电池有效

专利信息
申请号: 201010131540.5 申请日: 2010-03-19
公开(公告)号: CN101814543A 公开(公告)日: 2010-08-25
发明(设计)人: 林桂江;王良均;丁杰;吴志强 申请(专利权)人: 厦门市三安光电科技有限公司
主分类号: H01L31/052 分类号: H01L31/052;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 厦门原创专利事务所 35101 代理人: 徐东峰
地址: 361009 福建省厦*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开一种具有高峰值电流密度隧穿结的多结太阳电池,特别地是一种高倍聚光型GaInP/GaInAs/Ge三结太阳电池,连接Ge底电池、GaInAs中电池和GaInP顶电池的隧穿结共有五层,第一层是n型(AlxGa1-x)InP或AlGaAs防扩散层,第二层是使用Si、Te共掺的GaAs薄膜,第三层是使用Te掺杂的GaAs薄膜,第四层是使用C掺杂的AlGaAs薄膜,第五层是p型(AlxGa1-x)InP或AlGaAs防扩散层。通过本发明可以获得隧穿结峰值电流密度大于150A/cm2,含有所述隧穿结的多结太阳电池可在高于2000倍太阳聚光的条件下工作。
搜索关键词: 一种 具有 峰值 电流密度 隧穿结 太阳电池
【主权项】:
一种具有高峰值电流密度隧穿结的多结太阳电池,含有高倍聚光型GaInP/GaInAs/Ge三结太阳电池,其特征是:连接Ge底电池、GaInAs中电池和GaInP顶电池的隧穿结共有五层,第一层是n型(AlxGa1-x)InP或AlGaAs防扩散薄膜,第二层是使用Si、Te共掺的GaAs薄膜,第三层是使用Te掺杂的GaAs薄膜,第四层是使用C掺杂的AlGaAs薄膜,第五层是p型(AlxGa1-x)InP或AlGaAs防扩散薄膜。
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