[发明专利]一种制备纳米带的新方法无效
| 申请号： | 200910160765.0 | 申请日： | 2009-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN101648697A | 公开（公告）日： | 2010-02-17 |
| 发明（设计）人： | 杨为佑;谢志鹏;王华涛;安立楠 | 申请（专利权）人： | 宁波工程学院;清华大学;安立楠 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 315016浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种通过纳米线后续高温热处理制备纳米带的新方法，其包括以下具体步骤：(1)将原料纳米线置于Al2O3坩埚中；(2)使用气氛烧结炉对置于坩锅中的原料在N2气氛保护环境下于1450～1600℃进行热处理；(3)热处理保温10～120min；(4)随炉冷却至室温。本发明可以获得高纯度的纳米带状结构，设备和工艺简单。从原理上讲，本发明是通过纳米结构热力学稳定性的控制来实现纳米带的制备，有望成为制备纳米带的一种普适方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 纳米 新方法 | ||
【主权项】：
1、一种制备纳米带的新方法，其包括以下具体步骤：1)将原料Si3N4纳米线置于Al2O3坩埚中；2)使用气氛烧结炉对纳米线在N2气氛保护环境下于1450～1600℃进行热处理；3)热处理保温10～120min；4)炉冷至室温。
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