[发明专利]从用于生产气态氟的电解池中回收污染的电解质的方法无效
申请号: | 200910134686.2 | 申请日: | 2009-03-27 |
公开(公告)号: | CN101570867A | 公开(公告)日: | 2009-11-04 |
发明(设计)人: | P·G·埃克瓦格;J·B·普赖斯;D·克雷格;S·罗宾逊;K·C·贝克曼;A·格林威尔;R·特拉维斯 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | C25B15/08 | 分类号: | C25B15/08;C25B1/24 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 段晓玲;韦欣华 |
地址: | 美国新*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及从用于生产气态氟的电解池中回收污染的电解质的方法。所述污染的电解质是氟氢化钾和氢氟酸的其中具有金属离子的混合物。所述方法具有如下步骤:a)从电解池中移出污染的电解质至处理槽中;b)在处理槽中的污染的电解质中加入锂化合物以引起至少部分金属离子的沉淀;c)使金属离子沉淀到处理槽的底部;d)从处理槽底部移除沉淀的金属离子,以形成回收的电解质;和e)将回收的电解质返回电解池中。 | ||
搜索关键词: | 用于 生产 气态 电解池 回收 污染 电解质 方法 | ||
【主权项】:
1.回收电解池中污染的电解质的方法,其中所述污染的电解质是氟氢化钾和氢氟酸的其中具有金属离子的混合物,包括:a)从所述电解池中移出所述污染的电解质到处理槽中;b)向所述处理槽中的所述污染的电解质中加入锂化合物,以引起至少部分所述金属离子的沉淀;c)允许所述金属离子沉淀至所述处理槽的底部;d)从所述处理槽的底部移出所述沉淀的金属离子,以形成回收的电解质;和e)将所述回收的电解质返回至所述电解池。
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