[发明专利]半透过式液晶显示器、透明基板及其制造方法有效
申请号: | 200910079951.1 | 申请日: | 2009-03-13 |
公开(公告)号: | CN101833193A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 崔贤植 | 申请(专利权)人: | 北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1362;G02F1/1333;G03F7/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 100176 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种半透过式液晶显示器、透明基板及其制造方法。该半透过式液晶显示器的阵列基板在光透过区域和光反射区域内具有不同的厚度、彩膜基板在光透过区域和光反射区域内具有不同的厚度或彩膜基板和阵列基板在光透过区域和光反射区域内分别具有不同的厚度,使得液晶层在光透过区域内的厚度为(n+1)λ/2,在光反射区域内的厚度为(2m+1)λ/4,其中n和m为0或正整数。本发明能够提高半透过式液晶显示器的显示性能,并减少制造工艺中掩膜板的使用数,简化工艺,降低成本。 | ||
搜索关键词: | 透过 液晶显示器 透明 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半透过式液晶显示器,其包括阵列基板、彩膜基板以及液晶层,该半透过式液晶显示器划分为多个像素区域,每个像素区域包括光透过区域和光反射区域,其特征在于:所述阵列基板在所述光透过区域和所述光反射区域内具有不同的厚度、所述彩膜基板在所述光透过区域和所述光反射区域内具有不同的厚度或所述彩膜基板和阵列基板在所述光透过区域和所述光反射区域内分别具有不同的厚度,使得液晶层在光透过区域和光反射区域内的厚度满足公式一及公式二;公式一:dT=(n+1)λ/2,dT为液晶层在所述光透过区域内的厚度,n为0或正整数;公式二:dF=(2m+1)λ/4,dF为液晶层在所述光反射区域内的厚度,m为0或正整数。
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