[发明专利]一种荧光示踪阻垢剂及其制备方法无效
| 申请号： | 200910028143.2 | 申请日： | 2009-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN101475266A | 公开（公告）日： | 2009-07-08 |
| 发明（设计）人： | 周钰明;余洁;杜琨;吴文导 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | C02F5/10 | 分类号： | C02F5/10 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 | 代理人： | 叶连生 |
| 地址： | 21009*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种荧光示踪阻垢剂及其制备方法，该阻垢剂是由乌头酸或其盐、含乙烯基不饱和双键单体与含芘类荧光基团的苄氧基乙烯基单体进行自由基聚合反应而得到的固含量为20～50wt％的水溶液，其结构式为上式，结构式中B代表含乙烯基不饱和双键单体聚合后的重复结构单元；M是H+、NH4+、Na+或K+中的一种或多种的组合，m，n和p表示聚合度，m为1～5000，n为1～5000，p为1～5000。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 荧光 示踪阻垢剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种荧光示踪阻垢剂，其特征在于该荧光示踪阻垢剂是由乌头酸或其盐、含乙烯基不饱和双键单体与含芘类荧光基团的苄氧基乙烯基单体进行自由基聚合反应而得到的固含量为20～50wt％的水溶液，其结构式为：![]()
其中B代表含乙烯基不饱和双键单体聚合后的重复结构单元；M是H+、![]()
、Na+或K+中的一种或多种的组合，m，n和p表示聚合度，m为1～5000，n为1～5000，p为1～5000。
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