[发明专利]一种干磨法直接制备酞菁蓝15:3的方法无效
| 申请号： | 200910027489.0 | 申请日： | 2009-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN101880466A | 公开（公告）日： | 2010-11-10 |
| 发明（设计）人： | 杨汉洲;毛顺明;朱建军;刘小军 | 申请（专利权）人： | 江苏双乐化工颜料有限公司 |
| 主分类号： | C09B47/04 | 分类号： | C09B47/04;C09B67/20;C09B67/04;C09B67/54;C09B67/50;C09B47/06;C09D11/02;B02C17/00;B03C1/00 |
| 代理公司： | 泰州地益专利事务所 32108 | 代理人： | 王楚云 |
| 地址： | 225722 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种干磨法直接制备酞菁蓝15:3的方法，将纯度98.5％以上、游离铜1000ppm以下的粗品铜酞菁置于研磨设备中干磨，再经磁性过滤器除铁后，制得酞菁蓝15:3。该方法具有生产流程短、能耗低、原料消耗少、成本低、对环境影响小的显著特点；该方法生产的酞菁蓝15:3颜料在胶版印刷油墨中的颜色、墨色、着色强度、透明度与立式球磨法的颜料质量相当，并取得了颜料流动性能的明显改进提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 干磨法 直接 制备 酞菁蓝 15 方法 | ||
【主权项】：
一种干磨法直接制备酞菁蓝15:3的方法，其特征在于：1)原材料的选择：纯度98.5％以上、游离铜1000ppm以下的粗品铜酞菁；2)工艺步骤：(1)研磨：将纯度98.5％以上、游离铜1000ppm以下的粗品铜酞菁置于研磨设备中干磨，球磨时间1-25小时，球磨温度105-165℃，制得α晶型含量为50-60％的预活化铜酞菁；(2)除铁：再经磁性过滤器除铁后，制得酞菁蓝15:3，所述的磁性过滤器的摆布可以沿球磨机出料系统设多点进行布置。
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