[发明专利]带搅拌装置的熔解炉有效
| 申请号： | 200910005566.2 | 申请日： | 2009-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN101614485A | 公开（公告）日： | 2009-12-30 |
| 发明（设计）人： | 高桥谦三 | 申请（专利权）人： | 高桥谦三 |
| 主分类号： | F27D23/04 | 分类号： | F27D23/04;C22B21/00 |
| 代理公司： | 北京金之桥知识产权代理有限公司 | 代理人： | 林建军 |
| 地址： | 日本千叶*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明作为一种带搅拌装置的熔解炉而构成，其特征在于，包括可容纳熔液的熔解炉、以及用于通过电磁力搅拌所述熔液的搅拌装置，所述搅拌装置包括：第一电极，设置在所述熔解炉的任意位置上，以便与所述熔解炉内的熔液接触；第二电极，设置在所述熔解炉的底部附近，以便与所述熔液接触；第一磁场装置，以与所述熔解炉的底壁相面对的方式设置在所述熔解炉的外部，并使N极面对所述底壁；第二磁场装置，以与所述熔解炉的底壁相面对的方式设置在所述熔解炉的外部，并使S极面对所述底壁，所述第一磁场装置与所述第二磁场装置彼此隔着沿某一方向的间隙而配置。 | ||
| 搜索关键词： | 搅拌 装置 熔解 | ||
【主权项】：
1、一种带搅拌装置的熔解炉，其特征在于，包括可容纳熔液的熔解炉、以及用于通过电磁力搅拌所述熔液的搅拌装置，所述搅拌装置包括：第一电极，设置在所述熔解炉的任意位置上，以与所述熔解炉内的熔液接触；第二电极，设置在所述熔解炉的底部附近，以与所述熔液接触；第一磁场装置，以与所述熔解炉的底壁相面对的方式设置在所述熔解炉的外部，并使N极面对所述底壁；第二磁场装置，以与所述熔解炉的底壁相面对的方式设置在所述熔解炉的外部，并使S极面对所述底壁，所述第一磁场装置与所述第二磁场装置彼此隔着沿某一方向的间隙而配置。
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