[实用新型]PECVD设备上料及下料端的输送台有效
| 申请号： | 200820160201.8 | 申请日： | 2008-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN201258359Y | 公开（公告）日： | 2009-06-17 |
| 发明（设计）人： | 沈寅;王仁杰 | 申请（专利权）人： | 常州天合光能有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;C23C16/54 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所 | 代理人： | 王凌霄 |
| 地址： | 213031江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及太阳电池生产设备技术领域，尤其是一种PECVD设备上料及下料端的输送台，具有石墨框输送主动轮，输送主动轮之间设置至少一个惰轮，组成惰轮单元。这些惰轮给石墨框更多的支撑点，在增加石墨框运行的平稳性外，轮子对石墨条的摩擦也会更小，增加石墨条的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | pecvd 设备 料及 下料端 输送 | ||
【主权项】：
1、一种PECVD设备上料及下料端的输送台，具有石墨框输送主动轮(1)，其特征是：所述的输送主动轮(1)之间设置至少一个惰轮(2)，组成惰轮单元。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
