[发明专利]MgZnO基光电导型紫外探测器的制作方法无效

专利信息
申请号: 200810231659.2 申请日: 2008-10-09
公开(公告)号: CN101425553A 公开(公告)日: 2009-05-06
发明(设计)人: 赵莉 申请(专利权)人: 彩虹集团公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 代理人: 朱海临
地址: 71202*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种MgZnO基光电导型紫外探测器的制作方法,包括对玻璃基底进行清洗,在无基底温度的情况下在玻璃基底上溅射MgZnO合金薄膜层;在常压下,于空气中对溅射MgZnO合金薄膜层的玻璃基底进行退火处理;利用真空蒸发方法在薄膜上镀厚Al叉指状电极。本发明制备的MSM结构的MgZnO合金薄膜基光电导探测器原型器件,改善了所沉积薄膜的晶体质量,探测器暗电流小,光照电流与暗电流差别较大,具有良好的响应特性。
搜索关键词: mgzno 电导 紫外 探测器 制作方法
【主权项】:
1. 一种MgZnO基光电导型紫外探测器的制作方法,其特征在于,包括下述步骤:步骤一:对玻璃基底进行清洗;步骤二:在无基底温度的情况下,在玻璃基底上溅射厚度为200—800nm的MgZnO合金薄膜层;步骤三:在常压下,于空气中对溅射MgZnO合金薄膜层的玻璃基底进行退火处理;退火温度为250℃-450℃,退火时间2h;步骤四:利用真空蒸发方法在退火后的MgZnO合金薄膜上镀100--300nm的A1叉指状电极。
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