[发明专利]一种IC专用掩膜板上黑点类缺陷的修补方法有效
| 申请号： | 200810216703.2 | 申请日： | 2008-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN101382731A | 公开（公告）日： | 2009-03-11 |
| 发明（设计）人： | 荆学军 | 申请（专利权）人： | 清溢精密光电（深圳）有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F1/08 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518057广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明适用于IC专用掩膜板上黑点类缺陷修补领域，提供了一种IC专用掩膜板上黑点类缺陷的修补方法，其步骤为：(1)将IC专用掩膜板的膜面向上放在IC专用掩膜板修补仪上，使用IC专用掩膜板修补仪上设有的显微镜确定IC专用掩膜板的黑点类缺陷的位置；(2)打开IC专用掩膜板修补仪上设有的激光器，根据黑点类缺陷大小和种类选择与之相对应的修补光斑和修补工艺将黑点类缺陷修补掉，所述激光器的发射功率为250Mw至500Mw之间；(3)修补完成后把IC专用掩膜板从IC专用掩膜板修补仪上取下，完成修补操作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 ic 专用 掩膜板上 黑点 缺陷 修补 方法 | ||
【主权项】：
1、一种IC专用掩膜板上黑点类缺陷的修补方法，其特征在于包括以下步骤:(1)将IC专用掩膜板的膜面向上放在IC专用掩膜板修补仪上，使用IC专用掩膜板修补仪上设有的显微镜确定IC专用掩膜板的黑点类缺陷的位置；(2)打开IC专用掩膜板修补仪上设有的激光器，根据黑点类缺陷大小和种类选择与之相对应的修补光斑和修补工艺将黑点类缺陷修补掉，所述激光器的发射功率为250mw至500mw之间；(3)修补完成后把IC专用掩膜板从IC专用掩膜板修补仪上取下，完成修补操作。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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