[发明专利]氧化镁薄膜有效
申请号: | 200810096364.9 | 申请日: | 2008-03-26 |
公开(公告)号: | CN101274821A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 在田洋;河野诚;稻垣彻;植木明 | 申请(专利权)人: | 宇部材料工业株式会社 |
主分类号: | C03C17/23 | 分类号: | C03C17/23;H01J9/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;李平英 |
地址: | 日本国山*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供了一种用涂布法制造可见光透过性高的、而且耐溅射性高的氧化镁薄膜的技术。本发明如下制造膜厚为100~1000nm范围、白色光透过率在95%以上的氧化镁薄膜:在基板上涂布、并在干燥后烧成氧化镁微粒子分散液,所述氧化镁微粒子分散液分散有氧化镁作为利用动态光散射法测定的D50为5~40nm范围的微粒子,以下述含金属化合物所含金属的总摩尔含量相对于100摩尔的氧化镁为1.5~3.5摩尔范围的比例,含有属于碱土金属、稀土金属、长周期周期表中12族、13族、14族或15族金属的氧化物以外的含金属化合物,并将碳原子数3~5的一元醇作为分散介质。 | ||
搜索关键词: | 氧化镁 薄膜 | ||
【主权项】:
1、膜厚为100~1000nm范围、白色光透过率在95%以上的氧化镁薄膜的方法,该方法包括:在基板上涂布、并在干燥后烧成氧化镁微粒子分散液,所述氧化镁微粒子分散液分散有氧化镁作为利用动态光散射法测定的D50为5~40nm范围的微粒子,以下述含金属化合物所含金属的总摩尔含量相对于100摩尔的氧化镁为1.5~3.5摩尔范围的比例,含有属于碱土金属、稀土金属、长周期周期表中12族、13族、14族或15族金属的氧化物以外的含金属化合物,并将碳原子数3~5的一元醇作为分散介质。
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