[发明专利]清洁设备无效
申请号: | 200810086576.9 | 申请日: | 2008-03-20 |
公开(公告)号: | CN101269573A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 斋藤启史;中村仁人;松川明弘;中村勉久;浅见正明 | 申请(专利权)人: | 小森公司 |
主分类号: | B41F35/00 | 分类号: | B41F35/00;B41F23/08;B08B1/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王新华 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种清洁设备,所述清洁设备包括第一液体供应单元、第二滚筒、清洁单元、第三滚筒、第二液体供应单元、第一清洁液体供应单元以及控制器。第一液体供应单元将转印液体供应给第一滚筒。第二滚筒通过从第一滚筒转送的转印液体对转印目标体的一个表面进行转印。清洁单元清洁与该清洁单元接触的第二滚筒的圆周表面。第三滚筒被布置成与第二滚筒相对并对转印目标体的另一表面进行转印。第二液体供应单元将转印液体供应给第三滚筒。第一清洁液体供应单元将清洁液体供应给第一滚筒和第三滚筒中的至少一个。控制器在第二滚筒与第一滚筒和第三滚筒接触时控制清洁单元清洁第二滚筒。 | ||
搜索关键词: | 清洁 设备 | ||
【主权项】:
1.一种清洁设备,其特征在于,包括:第一液体供应装置(22),所述第一液体供应装置用于将转印液体供应给第一滚筒(21);第二滚筒(25),所述第二滚筒通过从所述第一滚筒转送的转印液体对转印目标体的一个表面进行转印;清洁单元(55),所述清洁单元清洁与该清洁单元接触的所述第二滚筒的圆周表面;第三滚筒(26),所述第三滚筒被布置成与所述第二滚筒相对并对所述转印目标体的另一表面进行转印;第二液体供应装置(29),所述第二液体供应装置用于将转印液体供应给所述第三滚筒;第一清洁液体供应装置(75A),所述第一清洁液体供应装置用于将清洁液体供应给所述第一滚筒和所述第三滚筒中的至少一个;以及控制装置(93),所述控制装置用于在所述第二滚筒与所述第一滚筒和所述第三滚筒接触时控制所述清洁单元清洁所述第二滚筒。
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