[发明专利]基于原子力显微镜的纳米结构中纳米间隙的精密测量方法无效

专利信息
申请号: 200810053708.8 申请日: 2008-06-30
公开(公告)号: CN101303221A 公开(公告)日: 2008-11-12
发明(设计)人: 栗大超;徐临燕;傅星;胡小唐 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: G01B7/14 分类号: G01B7/14
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所 代理人: 江镇华
地址: 300072*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 一种基于原子力显微镜的纳米结构中纳米间隙的精密测量方法,扫描测量被测样品上表面中心区域,将针尖定位于被测样品的中心;利用原子力显微镜探针进行垂直力的加载/卸载,直至被测样品的下表面与衬底发生接触;加载/卸载过程中实时记录原子力显微镜的力曲线,获得被测样品下表面与衬底之间的纳米间隙。具体是:标定原子力显微镜微悬臂梁的灵敏度;将原子力显微镜的针尖定位于被测样品上表面的几何中心;得到一致力曲线和转折力曲线;比较灵敏度力曲线、一致力曲线和转折力曲线三者斜率关系;提取被测样品下表面与衬底的距离。本发明测量中不需要破坏待测纳米器件的结构,可消除待测点不在被测样品表面中心所带来的测量误差,实现了纳米结构中纳米间隙的高分辨率测量。
搜索关键词: 基于 原子 显微镜 纳米 结构 间隙 精密 测量方法
【主权项】:
1.一种基于原子力显微镜的纳米结构中纳米间隙的精密测量方法,其特征在于,首先通过扫描测量被测样品上表面中心区域,将针尖定位于被测样品的中心作为待测点;然后利用原子力显微镜探针进行垂直力的加载/卸载,直至被测样品的下表面与衬底发生接触,即力曲线中出现转折;在加载/卸载过程中实时记录原子力显微镜的力曲线,获得被测样品下表面与衬底之间的纳米间隙。
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