[发明专利]光学成像系统及其制造方法有效
| 申请号： | 200810038701.9 | 申请日： | 2008-06-06 |
| 公开（公告）号： | CN101598849A | 公开（公告）日： | 2009-12-09 |
| 发明（设计）人： | 郝沛明;原育凯 | 申请（专利权）人： | 上海微小卫星工程中心 |
| 主分类号： | G02B17/08 | 分类号： | G02B17/08;G02B27/00;B29D11/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 200050上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种光学成像系统，包括依次排列的次镜、主镜、校正透镜组、像场校正镜；根据三级像差理论，考虑消除单色像差中的球差、彗差、像散和像场弯曲四项，所述主镜为抛物面；次镜为双曲面，次镜双曲面的圆锥系数根据次镜材料折射率确定。本发明双反光学成像系统经过计算机优化，其像质和视场得到了较为明显的提高，从几何点列图(SPOT)、调制传递函数MTF和环围能量EE来看，其像质基本达到了衍射极限。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 成像 系统 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光学成像系统，包括依次排列的次镜、主镜、校正透镜组、像场校正镜；其特征在于：所述主镜为抛物面；次镜为双曲面，次镜双曲面的圆锥系数根据次镜材料折射率确定。
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