[发明专利]创建高度受限区域信息的方法、设备和制造三维结构的方法有效
| 申请号： | 200710079282.9 | 申请日： | 2007-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101154244A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 有田裕一;野崎直行;天间司 | 申请（专利权）人： | 富士通株式会社 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 赵淑萍 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了用于创建高度受限区域信息的方法、设备和制造三维结构的方法。基平面高度确定单元确定基平面是否是利用具有不同高度的多个平面形成的。基平面确定单元在确定出基平面是利用具有不同高度的多个平面形成的时，确定是采用所述多个平面还是单个平面作为基础。高度受限区域信息创建单元在确定采用多个平面作为所述基础时通过采用不同位置的不同平面作为基础来创建高度受限区域信息，或者通过采用所述多个平面中的单个平面作为基础来创建高度受限区域信息。 | ||
| 搜索关键词： | 创建 高度 受限 区域 信息 方法 设备 制造 三维 结构 | ||
【主权项】：
1.一种用于基于三维结构的三维形状信息创建从基平面起的空闲空间的高度受限区域信息的设备，其中所述空闲空间在多个子结构被组合时形成在所述三维结构中，所述设备包括：基平面高度确定单元，其确定所述基平面是否是利用多个高度随位置有所不同的平面形成的；基平面确定单元，其在确定出所述基平面是利用多个高度随位置有所不同的平面形成的时，确定是采用所述具有不同高度的多个平面还是单个平面作为基础；以及高度受限区域信息创建单元，其在确定采用所述具有不同高度的多个平面作为所述基础时，通过采用不同位置的不同平面作为所述基础来创建所述高度受限区域信息，并且在确定采用所述单个平面作为基础时，通过采用所述具有不同高度的多个平面中的单个平面作为所述基础来创建所述高度受限区域信息。
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