[发明专利]投影机有效
申请号: | 200710078830.6 | 申请日: | 2007-02-16 |
公开(公告)号: | CN101025556A | 公开(公告)日: | 2007-08-29 |
发明(设计)人: | 西田和弘;石桥治 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G02B27/18;G02B27/28;G02B27/10;G02B3/06;H04N5/74;H04N9/31 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 投影机具备均匀照明光学系统(41)。均匀照明光学系统(41)具备通过多个第1透镜(4121)将光束分割为多束部分光束的第1透镜阵列(412)、具有多个第2透镜(4131)的第2透镜阵列(413)和使光束的偏振方向一致为大致1种的偏振变换元件(414)。偏振变换元件(414)具备在第1方向具有较长方向的偏振分离层(4141)、沿大致正交于第1方向的第2方向(B)与偏振分离层交替配置的反射层(4142)和对入射的偏振光的偏振方向进行变换的相位差层(4144)。第1透镜(4121)在第1方向的焦点位置设定于第2透镜阵列(413)附近;第2方向(B)的焦点位置设定于偏振变换元件(414)附近。 | ||
搜索关键词: | 投影机 | ||
【主权项】:
1.一种投影机,其具备:光源,相应于图像信息对从该光源所射出的光束进行调制而形成光学像的光调制装置,和对所形成的前述光学像进行投影的投影光学系统;其特征在于,具备:使从前述光源所射出的光束均匀化,对前述光调制装置的图像形成区域均匀地进行照明的均匀照明光学系统;前述均匀照明光学系统,具备:在大致正交于从前述光源所射出的光束的光轴的面内具有多个第1透镜,通过该多个第1透镜将前述光束分割为多束部分光束的第1透镜阵列,具有相应于前述第1透镜阵列的前述多个第1透镜的多个第2透镜的第2透镜阵列,和配置于前述第1透镜阵列的光束射出侧,使从前述第1透镜阵列所射出的光束的偏振方向一致为大致1种类的偏振变换元件;前述偏振变换元件,具备:在大致正交于从前述光源所射出的光束的光轴的面内的笫1方向具有较长方向,使入射光束中的具有一方的偏振方向的偏振光进行透射,对具有另一方的偏振方向的偏振光进行反射的偏振分离层,沿大致正交于从前述光源所射出的光束的光轴及前述第1方向的笫2方向,与前述偏振分离层交替地配置,将以前述偏振分离层所反射的偏振光,向与透射了前述偏振分离层的偏振光相同的方向反射的反射层,和配置于与前述偏振分离层或前述反射层对应的位置,将入射进来的偏振光的偏振方向变换为另一偏振方向的相位差层;前述各第1透镜在前述第1方向的焦点位置,设定于从该笫1透镜所射出的光束的光轴方向的前述第2透镜阵列附近;前述各第1透镜在前述第2方向的焦点位置,设定于从该第1透镜所射出的光束的光轴方向的前述偏振变换元件附近。
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