[发明专利]一种具有红外光生伏特效应的“光敏染料/硅”双层结构无效

专利信息
申请号: 200710048818.0 申请日: 2007-04-05
公开(公告)号: CN101055897A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 张祖训;郝纪祥;张盛唐 申请(专利权)人: 成都埃福斯材料科技有限公司
主分类号: H01L31/0256 分类号: H01L31/0256
代理公司: 成都信博专利代理有限责任公司 代理人: 舒启龙
地址: 610041*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种具有红外光生伏特效应的“光敏染料/硅”双层结构,其结构为右式,它将多甲川菁染料直接化学共价键合于单晶硅、多晶硅或非晶硅表面形成双层结构的异质结,可以在红外光的波长范围内获得光生伏特效应,这在理论上和应用上都有重要意义。
搜索关键词: 一种 具有 红外光 伏特 效应 光敏 染料 双层 结构
【主权项】:
1、一种具有红外光生伏特效应的“光敏染料/硅”双层结构,其特征是,其结构式为:分别代表:其中R1为H CH3 C2H5 CH3O C2H5O Cl Br I(CH3)2N HO其中R2,R3为H CH3 C2H5 C3H7 C6H5其中R4,R5为H CH3 C2H5 C6H5 CH3O C2H5O Cl BrI(CH3)2N HO其中R6,R7为H CH3O C2H5O其中R8为H CH3O C2H5O Cl HO其中R9为H CH3 C2H5 C6H5 Cl CH3O C2H5O HO其中R10为H CH3 C2H5其中R11R12为H CH3 C2H5 C6H5 Cl CH3O C2H5On=1,2,3,4,5……正整数n=1,2,3,4,5……正整数②G1,G2分别代表H CH3 C2H5 C3H7 C4H9 C6H5 C6H5O CH3OC6H5S C6H5NH Cl Br③n=0,1;m=0,1④L代表乙撑基取代乙撑基丙撑基取代丙撑基⑤X-代表负离子⑥A代表CH2CHCH2OB代表CH2CHSi(OR’)2O R’为CH3、C2H5在AnBm中,n,m可均等于零,亦可n为零m为壹或者n为壹m为零⑦R代表烷基,取代烷基、烯基、取代烯基、炔基、取代炔基。
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