[发明专利]纯水供应系统和清洗系统和使用纯水的清洗方法无效
| 申请号： | 200710005340.3 | 申请日： | 2007-02-14 |
| 公开（公告）号： | CN101037251A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 段畠政善 | 申请（专利权）人： | 尔必达存储器株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/68 | 分类号： | C02F1/68 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 谷惠敏;钟强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种系统，该系统在不增加批量生产半导体工厂中制造的纯水量的条件下能够提供几乎不包含溶解气体的纯水和包含溶解气体的纯水。在本发明中，使用纯水供应系统提供纯水，该纯水供应系统包括：用于制造具有0.4ppm或0.4ppm以下的溶解气体浓度的纯水制造装置；能够从纯水制造装置提供纯水的第一纯水供应装置；经由耦合部分耦合到纯水制造装置并在经由耦合部分从纯水制造装置传送的纯水中溶解气体的溶解装置；以及能够提供其中通过溶解装置溶解气体的纯水的第二纯水供应装置。 | ||
| 搜索关键词： | 纯水 供应 系统 清洗 使用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种纯水供应系统，包括：用于制造具有0.4ppm或0.4ppm以下的溶解气体浓度的纯水制造装置；能够从纯水制造装置提供纯水的第一纯水供应装置；经由耦合部分耦合到纯水制造装置并在经由耦合部分从纯水制造装置传送的纯水中溶解气体的溶解装置；以及能够提供其中通过溶解装置溶解气体的纯水的第二纯水供应装置。
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