[发明专利]一种同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法无效

专利信息
申请号: 200610114363.3 申请日: 2006-11-08
公开(公告)号: CN1945252A 公开(公告)日: 2007-04-11
发明(设计)人: 龚元;李斌成 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02;G01N21/55
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 代理人: 贾玉忠;卢纪
地址: 610209*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法,其特征在于:强度调制的连续激光入射到两块平凹高反射腔镜组成的稳定谐振腔,以锁相方式测量光腔输出信号一次谐波的振幅和相位,保持腔长不变,加入高反射测试镜构成折叠腔,重复上述过程,测量对应频率的折叠腔振幅和相位,进而得到两种腔型对应频率的振幅比值和相位差值。由两者随调制频率的变化曲线拟合或由两者在两个频率点的值计算,同时得到腔镜反射率和测试镜反射率,本发明具有测量效率和测量精度高的优点。
搜索关键词: 一种 同时 确定 反射 测试 反射率 方法
【主权项】:
1、一种同时确定高反射腔镜和测试镜反射率的方法,其特征在于通过以下步骤实现:(1)将方波或正弦波调制的连续激光,入射到两块相同的平凹高反射腔镜组成的稳定谐振腔或共焦腔,探测直腔输出信号一次谐波的振幅A1(f)和相位φ1(f);(2)保持腔长不变,在两块相同的平凹高反射腔镜之间加入高反射测试镜构成折叠腔,测量折叠腔对应频率下的振幅A2(f)和相位φ2(f);(3)由直腔和折叠腔两种腔型对应频率的振幅相除和相位相减分别得到振幅比值RA(f)和相位差值Δφ(f);(4)由两种腔型对应调制频率的振幅比值RA(f)和相位差值Δφ(f),通过频率曲线拟合确定直腔衰荡时间τ1和折叠腔衰荡时间τ2,计算腔镜反射率R和测试镜反射率Rx,或者由两种腔型对应调制频率的振幅比值RA(f)和相位差值Δφ(f),通过直接计算确定腔镜反射率R和测试镜反射率Rx。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所,未经中国科学院光电技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200610114363.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top