[发明专利]双面抛光机无效
| 申请号： | 200610057412.4 | 申请日： | 2006-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN101036976A | 公开（公告）日： | 2007-09-19 |
| 发明（设计）人： | 朱蓉辉;赵冀;惠峰;卜俊鹏;郑红军 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 100083北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种双面抛光机，包括：内齿圈和外齿圈，所述内齿圈设置于外齿圈内中心位置处；上抛光盘和下抛光盘，所述上抛光盘和下抛光盘呈圆环形，环绕内齿圈而设置在内齿圈和外齿圈之间；以及至少一个单面抛光用晶片固定盘，贴附多个被加工的晶片；其特征在于，所述双面抛光机还包括至少一个活动齿圈，所述至少一个活动齿圈设置在内齿圈与外齿圈之间并且在上抛光盘与下抛光盘之间，所述至少一个活动齿圈与内齿圈、外齿圈啮合；所述至少一个活动齿圈上设有贯通孔，晶片固定盘设置在所述贯通孔中。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 抛光机 | ||
【主权项】：
1.一种双面抛光机，包括：内齿圈和外齿圈，所述内齿圈设置于外齿圈内中心位置处；上抛光盘和下抛光盘，所述上抛光盘和下抛光盘呈圆环形，环绕内齿圈而设置在内齿圈和外齿圈之间；以及至少一个单面抛光用晶片固定盘，贴附多个被加工的晶片；其特征在于，所述双面抛光机还包括至少一个活动齿圈，所述至少一个活动齿圈设置在内齿圈与外齿圈之间并且在上抛光盘与下抛光盘之间，所述至少一个活动齿圈与内齿圈、外齿圈啮合；所述至少一个活动齿圈上设有贯通孔，晶片固定盘设置在所述贯通孔中。
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