[发明专利]作为含硅光致抗蚀剂的垫层的低折射指数聚合物

摘要

公开了显示高的耐蚀刻性和改进的光学性能的新型垫层组合物。所述垫层组合物包含乙烯基或丙烯酸酯聚合物，如甲基丙烯酸酯聚合物，所述聚合物包含至少一个取代或未取代的萘或萘酚结构部分(包括其混合物)。本发明聚合物的实例包括：通式(I)、(II)、(III)、(IV)，其中每个R₁独立地选自有机结构部分或卤素；每个A独立地是单键或有机结构部分；R₂是氢或甲基；每个X、Y和Z是0－7的整数，Y+Z是7或更少。上述有机结构部分可以是选自线性或支化烷基、卤化线性或支化烷基、芳基、卤化芳基、环状烷基、和卤化环状烷基的取代或未取代的烃、和它们的任何组合。所述组合物适合在多层光刻方法(包括三层光刻方法)中用作平面化垫层。

主权项

1.适合在多层光刻方法中用作平面化垫层的组合物，所述组合物包含：乙烯基或丙烯酸酯聚合物，所述聚合物包含至少一个取代或未取代的萘或萘酚结构部分。